Луч 4 аппарат: Аппарат для СМВ-терапии Луч-4

Аппарат Луч 4 физиотерапевтический для микроволновой СМВ терапии по цене производителя

Аппарат ЛУЧ — 4 для физиотерапии микроволновой (СМВ-терапии) предназначен для лечения электромагнитным полем гнойно-воспалительных заболеваний различной этиологии с помощью наружных излучателей (диаметр 20, 35 и 110 мм). Наличие в комплекте аппарат ЛУЧ — 4 для физиотерапии микроволнового трех внутриполостных излучателей (ректальный, вагинальный, ушной) позволяет эффективно использовать данный медицинский прибор в отоларингологии, урологии и гинекологии.

В отличие от медтехники для УВЧ-терапии, аппарат ЛУЧ — 4 для физиотерапии микроволновой (СМВ-терапии) создает направленный поток электромагнитной энергии, которая локализуется только в пораженном участке тела пациента. Благодаря этому возникает возможность осуществлять щадящее воздействие малой мощностью, не затрагивая окружающие здоровые ткани и органы, что особенно важно в педиатрии. При использовании медицинского прибора Луч — 4 основное выделение тепла происходит в мышечных тканях, а не в жировых, как это происходит при УВЧ-терапии. Поэтому при лечении с помощью аппарата ЛУЧ — 4 для физиотерапии микроволновой (СМВ-терапии) сроки течения заболевания сокращаются в 2 — 2,5 раза по сравнению с применением медикаментозных средств или других физических методов лечения.

Аппарат ЛУЧ — 4 для физиотерапии микроволновой снабжен устройствами, которые обеспечивают:

Все органы управления расположены на горизонтальной панели. Кнопки имеют подсветку. Мощность аппарата регулируется десятью ступенями в диапазоне от 0 до 5 Вт и плавно от 0 до 20 Вт. В основном, данная медтехника используется для реализации микроволновой терапии в условиях физиотерапевтических кабинетов лечебных учреждений.

Технические характеристики аппарата
ЛУЧ — 4 для физиотерапии микроволновой:
Количество излучателей (шт): 6
Частота электромагнитных колебаний,
создаваемых аппаратом (ГГц): 2,45
Два диапазона выходной мощности:
1) 0..5 Вт — мощность регулируется десятью ступенями
Мощность на первой ступени не превышает (Вт): 0,7
2) 0..20 Вт — мощность регулируется плавно
Нижний предел не превышает (Вт): 4
Потребляемая мощность (ВА): 170
Габаритные размеры (мм): 400х360х160
Масса (кг): 12,5

Аппарат микроволновой терапии «ЛУЧ-4» с принадлежностями (см. Приложение на 1 листе)Прина

Аппарат для СВЧ-терапии СМВ-20-4 Луч-4

• Информация
• Товар на сайте компании «Домашний Доктор ООО»

• Омск

• Просмотров: 98
• ID: 24277004

Аппарат СМВ-20-4 ЛУЧ-4 микроволновой терапии используется в физиотерапевтических кабинетах лечебных учреждений для лечения электромагнитным полем гнойно-воспалительных заболеваний различной этиологии с помощью наружных излучателей диаметром 20, 35 и 110 мм. Областью применения являются отоларингология, урология и гинекология благодаря наличию сразу трех внутриполостных излучателей ушного, ректального и вагинального соответственно.

Особенности и преимущества:
Лечение при помощи щадящего воздействия малой мощности, которое не затрагивает окружающие здоровые ткани и органы, что особенно важно в педиатрии. В отличие от других аппаратов для УВЧ-терапии, аппарат Луч-4 создает направленный поток электромагнитной энергии, которая локализуется только в пораженном участке тела пациента;
Сокращение сроков лечения заболевания в 2 — 2,5 раза по сравнению с применением медикаментозных средств или других физических методов лечения. Этот эффект обеспечивает другой принцип выделения тепла: в мышечных тканях, а не в жировых, как это происходит при УВЧ-терапии.
Автоматическое включение в режиме сброса мощности при подключении к сети;
Включение выходной мощности только при выведенному в крайнее левое положение регулятора мощности;
Автоматический сброс мощности по истечении времени процедуры с подачей звукового сигнала и световой сигнализации.
Подсветка кнопок управления, расположенных на горизонтальной панели.

Технические характеристики:
Количество излучателей: 6 шт.
Частота электромагнитных колебаний, создаваемых аппаратом: 2,45 ГГц
Два диапазона выходной мощности: 1. 0…5 Вт — мощность регулируется десятью ступенями.
Мощность на первой ступени не превышает 0,7 Вт. 2. 0…20 Вт — мощность регулируется плавно.
Нижний предел не превышает 4 Вт.
Потребляемая мощность: 170 ВА
Габаритные размеры, мм: 400х360х160
Вес, кг.: 12,5

Аппараты физиотерапевтические в вашем регионе

Регистрационное удостоверение на медицинское изделие МЗ РФ № 98/307

Для поиска информации о зарегистрированном медицинском изделии в строку поиска необходимо ввести соответствующий запрос: наименование медицинского изделия, либо номер регистрационного удостоверения, либо вид медицинского изделия. Для уточнения критериев поиска можно воспользоваться кнопкой «Расширенный поиск».

Обновлено 04.11.2021

Сведения, указанные в настоящем разделе, приведены для удобства пользователей в ознакомительных целях. ООО «Невасерт» не несет ответственность за достоверность данных. Для получения актуальных сведений используйте официальный реестр Росздравнадзора.

Аппарат для СМВ терапии «ЛУЧ-4» ;Облучатель ультрафиолетовый «Бод-9»;

9 935,84
₽

Обеспечение заявки

Не предусмотрено

Обеспечение договора

0

Место поставки: Волгоградская обл.

Подача заявок завершена

Взять в работу

Физиотерапевтическое отделение – Городской Противотуберкулёзный Диспансер Санкт-Петербурга

Физиотерапевтическое отделение СПб ГБУЗ ГПТД занимается восстановительным лечением пациентов фтизиатрического профиля.

ФТО обслуживает все отделения стационара, дневного стационара.

Все факторы, применяемые в комплексе  лечебных  воздействий при туберкулёзе,  по характеру воздействия делят на три группы:

1. Факторы противовоспалительного, туберкулостатического, гипосенсибилизирующего действия — это э.п. УВЧ, КВЧ, ингаляционная терапия, электрофорез лекарственных препаратов, дарсонвализация. Их используют в начальной стадии лечения туберкулёза.
2. Факторы рассасывающего действия — способствующие регенерации и заживлению, рассасыванию инфильтратов, рубцеванию полостей . К этой группе относят ультразвук, магнито-лазерную терапию, сочетание УЗВ с лекарственным электрофорезом и импульсными токами.
3. Группа факторов способствующих минимизации остаточных туберкулёзных изменений и полноценному функциональному восстановлению повреждённой лёгочной ткани в условиях постепенного затухания активности продуктивной фазы специфического воспаления. Основная  задача на завершающем этапе — предотвращение избыточного образования фиброзной ткани, улучшение микроциркуляции и трофики лёгочной ткани. Наиболее значимым является воздействие электромагнитными полями сверхвысокой частоты – это ДМВ и СМВ терапия.

Мы выбираем наиболее оптимальный комплекс физиолечения для каждого пациента с учётом стадии, характера поражения и сопутствующих заболеваний, а также длительность и кратность процедур.                                                                               

Кабинет оснащен следующими аппаратами:

• «ИОНОСОН-эксперт» — комбайн с множеством токов и возможностью УЗВ терапии
• Ингаляционные аппараты «ПАРИ ТУРБОБОЙ»
• Аппараты «УВЧ-30» и «УВЧ-66»
• «ЭЛФОР-проф» — аппарат гальванизации
• «Искра-4» аппарат дарсонвализации
• «УЗВ-101Ф» аппарат ультразвуковой
• «Ранет» аппарат ДМВ терапии
• «ЛУЧ-4» аппарат СМВ терапии
• А также аппараты магнитотерапии и светолечения.

Луч (космический аппарат) — это… Что такое Луч (космический аппарат)?

У этого термина существуют и другие значения, см. Луч.

Луч — серия советских и российских телекоммуникационных спутников-ретрансляторов двойного назначения созданных в НПО ПМ им академика М. Ф. Решетнёва.

Первое поколение КА «Луч» прежде всего предназначались для обеспечения двусторонней широкополосной связи с подвижными космическими, наземными и морскими объектами: кораблями ВМФ, космическими аппаратами и пилотируемыми комплексами (МКС, КК Союз и др.), а также передачи телеметрической информации с разгонных блоков и верхних ступеней ракет-носителей. Кроме того, КА «Луч» использовались для обмена ТВ новостями и программами между телецентрами и организации связи в чрезвычайных условиях и в труднодоступных районах^[1][2].

Новое поколение спутников «Луч», планируемое к запуску в 2011—2014 годах, кроме вышеперечисленных задач будет также выполнять ряд новых. На нём будет установлено оборудование системы Коспас-Сарсат и системы дифференциальной коррекции и мониторинга (СДКМ) для оперативной передачи информации о целостности радионавигационного поля для повышения точности навигационных определений в системе ГЛОНАСС^[3].

Система «Альтаир» («Луч»)

Первое поколение спутников-ретрансляторов «Луч» было создано НПО ПМ на базе платформы «КАУР-4» (её первое применение) и имело кодовое название «Альтаир» (индекс ГУКОС — 11Ф669). Эта система была задумана как часть второго поколения Глобальной Космической Командно-Ретрансляционной системы (ГККРС) и разрабатывалась на основании постановления ЦК КПСС и Совмина СССР от 17 февраля 1976 г. (другой его составной частью были геостационарные спутники системы «Гейзер»)^[1].

Спутник-ретранслятор «Альтаир» позволял устанавливать двустороннюю широкополосную связь с подвижным космическим, морским или же наземным объектом: например с кораблями ВМФ или же с новым поколением долговременных орбитальных станций и космический кораблей (станция «Мир», КК «Буран»). Наведение его антенн производилось по радиолучу станции-адресата. На КА «Альтаир» впервые использовались бортовые ЭВМ, управлявшие работой всех подсистем КА. Запуск спутников «Альтаир» позволил в два раза увеличить продолжительность сеанса связи комплекса «Мир» с Землей: ЦУП видел станцию даже на противоположной стороне планеты, поэтому космонавты смогли общаться с родственниками и с Центром управления без длительных перебоев связи, практически круглосуточно^[4].

Через активные транспондеры КА «Альтаир», созданных НПО Радиоприбор, спутники могли передавать на земные станции большие потоки цифровой информации, такие как оцифрованные изображения земной поверхности с КА оперативной видовой разведки. В связи с этим использовались бортовые антенны большого размера с узкими диаграммами направленности (до 0,5°), что также потребовало повышение точности ориентации орбитальной платформы до 0,1°^[1]. Коррекция по долготе производилась с помощью стационарных плазменных двигателей СПД-70. Общая масса КА была близка к 2400 кг, солнечные батареи площадью 40 м² обеспечивали питание мощностью 1.75 кВт^[5][6].

Всего было изготовлено пять КА первого поколения, но запущены только четыре. Последний «Альтаир» («Луч-15») был изготовлен в 2000 г., однако из-за отсутствия средств выведения пуск не состоялся, и было принято решение установить этот КА в Санкт-Петербургском музее связи им. А.С.Попова ^[7].

«Гелиос» («Луч-2»)

Спутник-ретранслятор «Луч-2» («Гелиос») в Центральном музее связи им А. С. Попова

В процессе испытаний первых КА «Альтаир» выяснилось, что транспондеры спутников имели большой запас по энергетике и не использовались на 100%^[4]. Поэтому модернизированный спутник «Альтаир»: КА «Луч-2» (кодовое название «Гелиос») также предназначался для сбора и передачи оперативной телевизионной информации, ТВ обмена между телецентрами, для проведения телемостов, телеконференций, репортажей, ретрансляции информации и организации связи в чрезвычайных условиях и в труднодоступных районах^[2].

Для системы «Альтаир» были зарегистрированы (международной индекс SDRN (W,C,E)) три орбитальных позиции на геостационарной орбите: 16° з.д.(WSDRN), 95° в.д (CSDRN). и 160° з.д. (ESDRN), но использовались только две первые. КА Луч-1 использовался в другой точке стояния: 77° в.д. (CSSRD-2)^[8].

В таблице приведены характеристики всех КА «Альтаир» и КА «Гелиос» изготовленных до 2000 года:

Многофункциональная космическая система ретрансляции (МКСР) «Луч»

Модель КА Луч-5а на выставке CeBIT 2011

Разработка МКСР «Луч» на базе КА-ретрансляторов «Луч-5А» и «Луч-5Б» была включена в Федеральную космическую программу России на 2006—2015 годы. Позже к ним был добавлен СР «Луч-4» для обеспечения радиообмена с космическими аппаратами стартующими с космодрома «Восточный», который будет введен в эксплуатацию в 2014—2015 гг. Запуски с этого полигона будут производиться на восток, поэтому трассы движения ракет-носителей пройдут над Тихим океаном. КА «Луч-4», согласно первоначальным планам, должен был располагаться в точке 167° в.д. и отслеживать запуски на первом участке полета. Для этих целей СР «Луч-4» должен был быть построен на более тяжёлой платформе и обладать гигантской антенной. Однако, в декабре 2011 года Роскосмос заказал третий спутник из серии «Луч-5» — «Луч-5В», который согласно новым планам будет работать в стояния точке 167° в.д, вместо КА «Луч-4»^[9][10]. Проект спутника-ретранслятора «Луч-4» был переименован в «Енисей-А1». На этом новом спутнике предполагается проверка новых технологий, таких как крупногабаритные развёртываемые антенны, апогейные электрореактивные двигатели СПД-140 для подъёма орбиты с переходной до геостационарной, а также новый бортовой радиокомплекс экспериментальной системы персональной подвижной спутниковой связи (БРК ЭСППСС)^[11][12].

Как и КА предыдущей системы, все КА МКСР «Луч» будут построены ОАО ИСС им академика М. Ф. Решетнёва^[3].

Оператором МКСР «Луч» является ОАО «Спутниковая система Гонец»

Назначение

КА-ретрансляторы системы МКСР будут работать с низколетящими спутниками с высотой орбит до 2000 км над поверхностью Земли, такими как пилотируемые космические комплексы, космические корабли и, а также ракеты-носители, разгонные блоки и др. КА «Луч» будут принимать от них информацию (как телеметрическую, так и целевую) на участках полета, находящихся вне зон видимости с территории России, и ретранслировать ее в режиме реального времени на российские земные станции. В то же время, будет обеспечена возможность передачи команд управления на эти КА^[3][13].

В первую очередь, система МКСР будет обслуживать российский сегмент Международной космической станции. В настоящее время российский сегмент международной космической станции может напрямую взаимодействовать с ЦУПами в течение около 2,5 часов в сутки. Для связи в остальное время Россия покупает услуги американской системы TDRSS (Tracking and Data Relay Satellite System), аналогичной МКСР^[3].

МКСР «Луч» унаследовала точки стояния на геостационарной орбите от системы «Альтаир»: 16° з.д. над Атлантикой, 95° в.д. над Индийским океаном и 167° в.д. над Тихим океаном. В зоне их видимости будет находится вся поверхность планеты за исключением полярных и приполярных областей. Таким образом, КА будут иметь возможность взаимодействовать с ЦУПами, расположенными на территории России, почти 100 % времени^[3][7].

• Обмен информацией различного вида, в том числе телевизионной;
• Ретрансляция телеметрической информации от ракеты-носителя, разгонных блоков и других объектов ракетно космической техники;
• Ретрансляция сигналов «Вызов НКУ» от НКА;
• Ретрансляция информации целевого назначения от НКА;
• Ретрансляция информации от автоматических станций гидрометеорологической системы Росгидромета;
• Ретрансляция сигналов автоматических радиобуев международной системы спасания «КОСПАС-САРСАТ»;
• Ретрансляция корректирующих сигналов для глобальной навигационной системы ГЛОНАСС.

Ретрансляторы СДКМ

МКСР «Луч» предусматривает установку специальных ретрансляторов для российской системы дифференциальной коррекции и мониторинга (СДКМ). Через эти ретрансляторы со специальных земных опорных станций будут передаваться дифференциальные поправки к измерениям, которые осуществляются по спутникам системы ГЛОНАСС. Это позволит увеличить точность измерения сигнала ГЛОНАСС до сантиметров на расстоянии до 200—400 км от станций коррекции (двухчастотные приемники) и до 1,5 — 3 меторв на территории России^[14]. В то же время передается информация о целостности и качестве работы самих навигационных космических аппаратов. Это имеет большое значение для высокоскоростных потребителей (например гражданская авиация)^[13].

Ссылки

Примечания

См. также

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛУЧА

| TecQuipment

Beam Apparatus позволяет проводить широкий спектр экспериментов для удовлетворения практически всех требований курса, связанных с изгибом балок. Базовый блок предоставляет возможности для опирания балок на простые встроенные и проходящие опоры, приложения точечных нагрузок и измерения опорных реакций и прогибов балок. Он включает в себя пять различных испытательных пучков. Пакет из десяти дополнительных пучков образцов (SM1004a) доступен для дальнейших экспериментов.

Балочный прибор можно использовать для практически неограниченного количества экспериментов, начиная от определения модуля упругости балок из различных материалов и заканчивая исследованиями неразрезных балок с любой нагрузкой.На этапе проектирования было уделено большое внимание обеспечению максимальной гибкости и простоты использования.

Основная рама устройства состоит из верхней поперечины с градуированными шкалами и двух нижних элементов, прикрепленных болтами к Т-образным опорам для образования жесткого узла. Три датчика веса и консольная опорная стойка скользят по нижним элементам и могут быть надежно закреплены в любом положении. Тензодатчики имеют прямое цифровое считывание, и каждый из них оснащен острием из закаленной стали, которое можно регулировать для установки начального уровня или для имитации опускания опоры.При необходимости стопорные штифты могут превратить каждый датчик веса в жесткую опору.

Консольная опора представляет собой жесткую опору с прочным зажимным приспособлением для удержания балок, когда требуются встроенные концевые условия. Поставляются четыре грузовых подвеса и набор грузов для приложения статических нагрузок. Три цифровых индикатора измеряют все отклонения луча. Индикаторы крепятся на магнитных держателях, которые скользят по верхней поперечине. Индикаторы, держатели, датчики веса и весовые подвески имеют курсоры, которые регистрируются на шкале (расположенной на верхней поперечине), чтобы обеспечить легкое и точное позиционирование.Все цифровые индикаторы и датчики веса имеют разъемы и кабели для подключения к дополнительной универсальной системе сбора данных (VDAS®) TecQuipment.

Стандартные испытательные балки имеют три толщины и состоят из трех различных материалов. Они подходят для полного спектра экспериментов, охватывающих различные конфигурации загрузки и поддержки. Дополнительный набор балок позволяет проводить эксперименты с балками различных типов, включая составные, канальные и неоднородные балки из различных материалов.

Beam Apparatus поставляется с подробным руководством пользователя.

Для быстрых и надежных испытаний дополнительный VDAS® от TecQuipment обеспечивает точный сбор, мониторинг и отображение данных в реальном времени, расчет и отображение всех важных показаний на компьютере.

Патент США на устройство для оптики частиц и патент на систему пучка частиц (Патент № 11,087,949, выдан 10 августа 2021 г.)

ПЕРЕКРЕСТНАЯ ССЫЛКА НА СООТВЕТСТВУЮЩУЮ ЗАЯВКУ

Настоящая заявка является продолжением и требует выплаты в соответствии с 35 USC 120 в пользу U.С. приложение Сер. № 15/935378, поданной 26 марта 2018 г., в которой испрашивается выгода в соответствии с 35 USC 119 (e) по заявке Германии № 10 2017 205 231.7, поданной 28 марта 2017 г. Полное раскрытие этих заявок включено ссылка здесь.

FIELD

Настоящее изобретение относится к оптическому устройству для частиц и оптической системе для частиц, имеющей такое оптическое устройство для частиц.

Уровень техники

Частично-оптические устройства используют пучки заряженных частиц, такие как электронные пучки и ионные пучки, например, для многих различных целей, например.грамм. для получения информации об объектах и ​​для структурирования объектов. Например, электронно-лучевые и ионно-лучевые микроскопы используются для получения информации об исследуемых материалах, а приборы для электронно-лучевой литографии, аппараты для электронно-лучевой сварки и ионно-лучевые аппараты используются для изменения структуры объектов.

В системе пучков частиц один или несколько пучков частиц создаются источником частиц и направляются на объект. С этой целью желательно целенаправленно воздействовать на пучки частиц с использованием подходящих оптических устройств для частиц, чтобы, например, направить пучки частиц в фокусе в желаемое место на объекте.Такие оптические устройства для частиц используют магнитные и / или электрические поля для воздействия на пучки частиц. Пространственная зависимость и симметрия создаваемых полей определяется геометрией электродов или катушек, используемых для создания электрического и магнитного полей. Пространственная зависимость и симметрия полей определяют, как оптическое устройство для частиц влияет на пучки частиц, проходящие через поля. Например, существуют оптические устройства для частиц, которые создают поля, которые действуют как линзы, чтобы изменить сходимость пучка частиц, проходящего через устройство, есть устройства, которые действуют как отражатель пучка, чтобы отклонить проходящий пучок частиц. через аппарат под нужным углом и появляются эл.грамм. устройства, которые действуют как стигматоры, чтобы астигматически воздействовать на пучок частиц, проходящий через устройство.

Оптическая система для частиц может быть собрана из множества таких устройств, чтобы последовательно влиять на один или несколько пучков частиц различными способами, при этом некоторые из устройств также служат для установки или регулировки пучка в системе в таких условиях. способ, которым луч попадает в последующее устройство желаемым образом. Здесь конструкция оптической системы частиц подчиняется граничным условиям, которые предопределяются, среди прочего, установочным пространством, занимаемым электродами и катушками, а также их удерживающими структурами, используемыми для создания полей.Следовательно, в целом невозможно реализовать все желаемые пространственные зависимости и симметрии полей для воздействия на пучки частиц для определенной системы пучков частиц, поскольку для воздействия на пучки частиц доступно только разумное количество оптических устройств для частиц.

СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Настоящее изобретение направлено на повышение гибкости при разработке оптических систем для частиц.

Варианты осуществления раскрытия предоставляют оптическое устройство для частиц для воздействия на пучок частиц, оптическое устройство для частиц, использующее катушки для создания магнитных полей, которые ориентированы поперек направления пучка частиц, проходящего через устройство, а именно: значительная сила, т.е.е. сила, которая влияет на луч, в местах, которые, если смотреть в направлении луча, расположены на расстоянии от катушек, создающих поле. В качестве примера, эти поля могут использоваться для отклонения луча, который проходит через устройство, и / или изменения луча в отношении его астигматизма. Обычные отражатели или стигматоры пучка создают поля, влияющие на пучок, со значительной силой в местах, которые, если смотреть в направлении пучка, по существу перекрываются с катушками для создания полей.В отличие от этого, оптическое устройство для частиц согласно объясненным вариантам осуществления может использоваться для создания значительных магнитных полей, влияющих на пучок частиц на расстоянии в направлении пучка, проходящего через устройство, поэтому устройство воспроизводит его. возможно воздействовать на пучок частиц в оптической системе для частиц в областях вдоль пучка, недоступных для обычных устройств. Следовательно, оптические устройства для частиц в соответствии с вариантами осуществления настоящего раскрытия могут повысить гибкость при разработке оптических систем для частиц.

Согласно примерным вариантам осуществления оптическое устройство для частиц включает в себя, по меньшей мере, две катушки, каждая с, по меньшей мере, одним витком, который, в частности, расположен рядом с осью луча и не охватывает последнюю, при этом катушки, когда его витки несут ток, а другие катушки оптического устройства для частиц не несут ток, создают значительное магнитное отклоняющее поле на оси луча, при этом максимальное расстояние витков от оси луча является первым расстоянием, на котором плотность магнитного потока магнитного поля имеет локальный максимум своего абсолютного значения вдоль оси луча, причем локальный максимум расположен в месте вдоль оси луча, которое находится на втором расстоянии от витков вдоль оси луча, и где вторая ось находится на минимум 0.В 05 раз, в частности, по меньшей мере, в 0,10 раза, в частности, по меньшей мере, в 0,15 раза и, в частности, по меньшей мере, в 0,20 раза больше, чем первое расстояние.

Степень плотности магнитного потока вдоль оси луча может быть определена экспериментально для данного оптического устройства для частиц путем измерения зонда, который измеряет плотность магнитного потока, и путем смещения последнего вдоль оси луча. Если геометрия катушек и остальных компонентов оптического устройства для частиц известна, профиль магнитного поля также может быть определен путем численного моделирования.Соответственно, можно определить положение вдоль оси луча, в котором абсолютное значение плотности магнитного потока магнитного поля, создаваемого катушками, имеет максимальное значение. Знание геометрии катушек затем дает возможность определить расстояние, спроецированное на ось луча, до этого положения максимума от катушек. Также возможно определить из всех местоположений, которые расположены в объеме катушек, за исключением их линий питания, местоположение, которое находится на максимальном расстоянии от оси луча.Соотношение этих двух расстояний может тогда принять вышеупомянутые значения. Эти значения указывают на то, что магнитное поле, которое имеет решающее значение для воздействия на пучок частиц, может оказывать значительное влияние в месте, которое может быть расположено вдоль оси пучка на расстоянии от катушек и, в частности, может находиться за пределами места установки. Предполагается, что катушки и другие компоненты оптического устройства для частиц.

Согласно дополнительным примерным вариантам осуществления, оптическое устройство для частиц включает в себя по меньшей мере две катушки первого типа по обе стороны от оси луча, каждая из которых имеет по меньшей мере один виток, катушки, когда обе проводят ток, и другие катушки частицы. -оптические устройства не пропускают ток, создавая магнитное отклоняющее поле на оси луча, центроид которого находится в точке z ₀ на оси луча, при этом каждая из двух катушек, соответственно, имеет центр масс в определенном месте {справа стрелка над (r)} ₀ , и при этом применяется следующее:

отношение расстояния между местоположением z ₀ от соединительной линии между двумя местоположениями {стрелка вправо над (r)} ₀ и расстояние между двумя местоположениями {стрелка вправо над (r)} ₀ друг от друга больше 0.1, в частности больше 0,2, в частности больше 0,5 и, в частности, больше 0,8.

Здесь магнитный центр отклоняющего поля — это положение z ₀ вдоль оси луча, в котором, по-видимому, действует магнитное поле, то есть место, в котором пучок частиц, входящий в устройство, будет в случае прямолинейное продолжение, пересекаются с отклоненным пучком частиц, выходящим из устройства, если последний вытянут по прямой.Это место также называется точкой наклона дефлектора балки. Пространственно нераспространенное отклоняющее поле, действующее на пучок частиц в месте точки наклона, будет иметь такое же влияние на пучок на относительно большом расстоянии от отклоняющего элемента, как и пространственно-расширенное значительное магнитное отклоняющее поле, которое действует на пучок. В качестве примера магнитный центроид z ₀ можно рассчитать по следующей формуле:

z0 = ∫z⁢⁢minz⁢⁢max⁢zB⊥⁡ (z) ⁢dz∫z⁢⁢minz⁢⁢max ⁢B⊥⁡ (z) ⁢dz

Здесь интегрирование выполняется вдоль оси пучка, идущей в направлении z.B _⊥ (z) — составляющая отклоняющего магнитного поля (B ₁ ), ориентированная перпендикулярно оси пучка; z _min и z _max — верхний и нижний пределы интеграции. Как обычно, они могут быть выбраны равными −∞ и + ∞. Однако протяженность системы пучка частиц, в которую интегрировано устройство, конечна. Следовательно, на практике диапазон интегрирования между z _min и z _max может быть выбран таким, чтобы, например, значения B (z) были больше, чем e.грамм. 0,01 его максимального значения. Положения {стрелка вправо над (r)} ₀ можно рассчитать для каждой катушки по следующей формуле:

r → 0 = argmaxr → s⁢∫0L⁢r → -r → sr → — r → s3 × dl → 

Здесь интегрирование выполняется по носителю тока, образующему соответствующую катушку, по ее длине L. {стрелка вправо над (r)} — это местоположения на центральной линии носителя тока катушки, а {стрелка вправо над (r)} _s — местоположения в пространстве.Следовательно, эта формула для {стрелка вправо над (r)} ₀ выбирает место {стрелка вправо над (r)} _s , в котором абсолютное значение интеграла является максимальным. Интеграл соответствует интегралу, который также используется в формуле согласно Био-Савару

B → ⁡ (r → s) = μ0 · I4 · π⁢∫0L⁢r → -r → sr → -r → s3 × dl →
для расчета магнитного поля воздушной катушки путем интегрирования по катушке. Однако оптическое устройство для частиц может иметь структуры, направляющие магнитный поток, вблизи носителя тока, и поэтому условия для воздушной катушки не выполняются.Положения {стрелка вправо над (r)} ₀ , определенные в соответствии с вышеупомянутой формулой, близки к местам, в которых воздушные катушки, имеющие геометрию, равную геометрии носителя тока, будут создавать по существу максимальное поле. Положения {стрелка вправо над (r)} ₀ служат для определения местоположения и катушки, которая может быть размещена на оси луча относительно местоположения z ₀ .

Согласно другим примерным вариантам осуществления оптическое устройство для частиц для воздействия на пучок частиц включает в себя структуру, направляющую магнитный поток, которая имеет отверстие, через которое проходит ось пучка частиц, который проходит через оптическое устройство для частиц.Кроме того, оптическое устройство для частиц включает в себя, по меньшей мере, две катушки, каждая, по меньшей мере, с одним витком, причем катушки расположены в структуре направления магнитного потока. При прохождении тока катушки создают магнитные поля внутри структуры, направляющей магнитный поток, и вне структуры, направляющей магнитный поток. Магнитные поля могут быть представлены силовыми линиями. Это замкнутые линии, которые проходят через катушки и проходят как внутри структуры, направляющей магнитный поток, так и за ее пределы, например, в вакууме.Места, в которых магнитные поля действуют на пучок частиц, находятся за пределами структуры, направляющей магнитный поток. Структура, направляющая магнитный поток, представляет собой более низкое магнитное сопротивление магнитному полю, чем, например, вакуум или другие тела, расположенные вне структуры, направляющей магнитный поток, через которые проходит магнитное поле. Следовательно, можно установить профиль магнитного поля вне структуры, направляющей магнитный поток, путем проектирования геометрии структуры, направляющей магнитный поток, и расположения катушек на ней.В частности, путем разработки структуры направления магнитного потока и расположения на ней катушек можно установить профиль магнитного поля вне структуры направления магнитного потока таким образом, чтобы пучок частиц проходил через прохождение устройства вдоль оси луча существенно влияет в областях, расположенных за пределами установочного пространства, принимаемых структурой направления магнитного потока и витками катушек.

Согласно приведенным здесь примерным вариантам осуществления структура направления магнитного потока и витки двух катушек спроектированы таким образом, что, когда эти две катушки проводят ток, а другие катушки оптического устройства для частиц, которые, возможно, присутствуют, не несут ток, катушки создают значительное магнитное поле, которое влияет на луч, магнитное поле имеет силовые линии, которые имеют следующие свойства:

• • Силовые линии сначала проходят через первую из двух катушек, а затем через вторую из две катушки.Между двумя катушками силовые линии могут проходить в структуре, направляющей магнитный поток, или вне структуры, направляющей магнитный поток.
  • Силовые линии покидают структуру, направляющую магнитный поток, в первых местах, которые расположены на первой стороне относительно оси луча; т.е. есть переходы в первых местах, в которых силовые линии выходят из магнитопроводящей структуры и входят, например, в вакуум.
  • Силовые линии пересекают ось луча во вторых местах, которые расположены вдоль оси луча на расстоянии от структуры, направляющей магнитный поток.Это означает, что силовые линии пересекают оси луча во вторых точках. В частности, силовые линии могут быть ориентированы перпендикулярно оси луча во вторых местах; однако возможны и другие углы.
  • Силовые линии снова входят в структуру, направляющую магнитное поле, в третьих местах, которые соответственно расположены на стороне, противоположной первым точкам относительно оси луча. В частности, первое место, в котором данная силовая линия выходит из структуры, направляющей магнитный поток, находится напротив третьего места, в котором данная линия поля повторно входит в структуру, направляющую магнитный поток, относительно ось пучка.В частности, силовые линии могут проходить исключительно в вакууме на своем пути от первых местоположений к третьим местоположениям через вторые местоположения.
  • Из третьих местоположений, в которых они входят в структуру, направляющую магнитный поток, силовые линии проходят, по меньшей мере частично, внутри них, обратно в первые местоположения. Здесь силовые линии могут покрывать весь путь между третьими точками и первыми точками внутри структуры направления магнитного потока. Однако также возможно, что они снова появятся из структуры, направляющей магнитный поток, с целью преодоления нескольких растяжений.

Свойства линий поля, указанные выше, применяются по крайней мере к некоторым из линий поля поля, создаваемого двумя катушками. Необязательно, чтобы эти свойства применялись ко всем линиям поля.

Согласно примерным вариантам осуществления каждое из первого и третьего местоположений расположены на расстоянии от оси луча, которое больше наименьшего расстояния витков катушек от оси луча.

Согласно примерным вариантам осуществления, расстояние вторых местоположений от структуры направления магнитного потока вдоль оси луча больше 0.В 5 раз, в частности больше 0,7 раз, в частности больше 1,0 раз и, в частности, больше 1,5 раз расстояния между первыми местоположениями и соответствующими третьими местоположениями. В качестве примера, эти расстояния могут быть определены путем численного моделирования для отдельных силовых линий магнитного поля, создаваемого двумя катушками. Вышеупомянутое числовое условие не обязательно применять к расстояниям для всех силовых линий создаваемого магнитного поля.

Согласно примерным вариантам осуществления, структура направления магнитного потока и две прикрепленные к ней катушки спроектированы и сконфигурированы таким образом, что, когда одна из двух катушек проводит ток, а другие катушки оптического устройства для частиц не переносят ток, эта катушка создает магнитное поле, для которого применимо следующее: абсолютное значение угла между {стрелка вправо над (B)} _max ({стрелка вправо над (r)}) ₀ и осью луча меньше или равно 60 °, где {стрелка вправо над (B)} _max ({стрелка вправо над (r)}) ₀ представляет собой плотность потока магнитного поля в определенном месте {стрелка вправо над ( r)} с координатами x, y и z, при которых модуль плотности потока магнитного поля максимален.

Согласно примерным вариантам осуществления катушки расположены рядом с осью луча и не охватывают ее.

Местоположение {стрелка вправо над (r)}, в котором абсолютное значение магнитного поля, создаваемого катушкой, имеет максимальное значение, может быть определено экспериментально для данного устройства, например, исходя из пространства вокруг структуры магнитного потока и катушек, которые систематически сканируются с использованием датчика магнитного поля, такого как, например, зонд с эффектом Холла.Далее это местоположение можно найти с помощью численного моделирования. Далее, этими способами можно определить ориентацию вектора поля в месте максимума. Из этой ориентации, в свою очередь, можно вычислить угол между вектором поля, основание которого привязано к положению максимума, и прямой линией, проходящей через точку максимума и ориентированной параллельно. к оси пучка. Этот угол меньше или равен 60 °, в частности, меньше или равен 30 ° и, в частности, равен 0 °, что означает, что вектор поля в месте максимума ориентирован параллельно оси луча.

Согласно примерным вариантам осуществления, структура направления магнитного потока обеспечивает пути потока для магнитного поля, пути потока проходят между входом силовой линии в структуру направления магнитного потока и выходом ее из магнитного потока. — направляющая структура, без прерывания в структуре магнитного потока и вокруг отверстия в структуре магнитного потока для прохождения луча. Здесь можно различить две группы профилей силовых линий: первая группа силовых линий проходит по траекториям, которые не приближаются к оси луча или расстояние между которыми от оси луча вообще не превышает точки, превышающие наименьшее расстояние от оси луча, принимаемое по крайней мере одной катушкой.И наоборот, вторая группа силовых линий проходит вдоль путей, которые приближаются к оси пучка в структуре, направляющей магнитный поток, чем это соответствует наименьшему расстоянию катушек от оси пучка.

В соответствии с примерными вариантами осуществления структура, направляющая магнитный поток, спроектирована таким образом, что силовые линии как первой группы, так и второй группы проходят в ней. Согласно альтернативным примерным вариантам осуществления структура, направляющая магнитный поток, сконструирована таким образом, что силовые линии второй группы в ней не существуют.В частности, в этой конфигурации возможно то, что силовые линии выходят из направляющей магнитный поток структуры в области ее отверстия, проходят через отверстие и вместо этого снова входят в направляющую магнитный поток структуру на противоположной стороне. обхода отверстия в структуре, направляющей магнитный поток. Это произойдет, в частности, когда структура, направляющая магнитный поток, обеспечивает большое магнитное сопротивление, так что силовые линии выходят из магнитной структуры в области отверстия с целью преодоления растяжения между вышеупомянутым третьим местоположением и первым местоположением. .В этом случае магнитное поле, которое также может влиять на пучок частиц, также присутствует на оси пучка в области отверстия.

В частности, структура, направляющая магнитный поток, может быть выполнена в виде плоской пластины, которая имеет центральное отверстие для прохождения пучка частиц и на которую нанесены катушки. Однако конструкция структуры, направляющей магнитный поток, не ограничивается частным случаем плоской пластины. Например, структура, направляющая магнитный поток, может быть конической или куполообразной, при этом ось луча может быть осью симметрии конической или куполообразной конструкции.Однако структура, направляющая магнитный поток, может быть воплощена даже более свободно и может не иметь идентифицируемой симметрии. Соответственно, катушки, прикрепленные к структуре для направления магнитного потока, не обязательно должны иметь витки, которые соответственно расположены в плоскости. Каждый поворот может проходить по области, имеющей любую изогнутую или дугообразную форму. Витки катушек могут быть нанесены на поверхность магнитной структуры и, например, удерживаться на ней посредством клеевого соединения или другого крепежного устройства. Однако витки катушек также могут быть установлены в канавки, предусмотренные в структуре для направления магнитного потока.Кроме того, витки катушек могут быть полностью встроены в магнитопроводящую структуру.

Кроме того, нет необходимости выполнять структуру, направляющую магнитный поток, в виде тела, имеющего замкнутые области, в которых сформированы катушки. Скорее, корпус структуры для направления магнитного потока может быть перфорированным, то есть иметь отверстия. В частности, структура, направляющая магнитный поток, может быть выполнена в виде решетки или каркаса, перемычки которых направляют магнитный поток.

Согласно примерным вариантам осуществления край структуры, направляющей магнитный поток, которая определяет отверстие в структуре направления магнитного потока и которая обращена к оси луча, расположена на меньшем расстоянии от оси луча, чем каждое местоположение, предполагаемое катушки.В приведенных здесь примерных вариантах осуществления, по меньшей мере, одна прорезь или одна выемка предусмотрена в структуре для направления магнитного потока, которая, исходя от этого края, проходит радиально наружу, то есть от оси луча. Эта прорезь увеличивает магнитное сопротивление для определенных путей силовых линий магнитного поля внутри структуры, направляющей магнитный поток, и, в частности, затрудняет прохождение силовых линий вокруг отверстия на противоположной стороне внутри структуры, направляющей магнитный поток. стороной по отношению к оси балки.Затем, чтобы преодолеть этот путь, силовые линии будут легче выходить из структуры направления магнитного потока в области отверстия, проходить через отверстие и повторно входить в структуру направления магнитного потока на противоположной стороне.

Согласно примерным вариантам осуществления, множество таких прорезей предусмотрено в распределенном расположении в окружном направлении. Согласно дополнительным примерным вариантам осуществления щели в каждом случае проходят между двумя катушками, которые расположены рядом друг с другом в окружном направлении.

Согласно примерным вариантам осуществления две, четыре, шесть или восемь катушек расположены распределенными в окружном направлении вокруг оси луча. Если используются две катушки, они могут, в частности, создавать дипольное поле на оси луча, причем сила дипольного поля регулируется путем изменения тока, протекающего через катушки. Однако ориентация этого дипольного поля в окружном направлении вокруг оси луча геометрически предопределена положениями двух катушек в окружном направлении вокруг оси луча.Если используются четыре катушки, можно установить ориентацию поля диполя вокруг оси луча, задав токи через четыре катушки. Затем оптическое устройство для частиц может работать, например, как отражатель луча, который способен отклонять в регулируемом направлении на регулируемый угол проходящий через него луч. Если используются четыре катушки, можно дополнительно создать квадрупольное поле на оси луча, однако ориентация квадрупольного поля в окружном направлении не регулируется.Затем, если используются восемь катушек, можно создавать магнитные квадрупольные поля на оси луча, которые регулируются в отношении их силы и ориентации относительно оси луча. Тогда, в частности, оптический аппарат для частиц может использоваться в качестве стигматора.

В соответствии с дополнительными примерными вариантами осуществления предусмотрены пары катушек с различными радиальными расстояниями от оси луча. Если предположить, что катушка, которая расположена на большем расстоянии от оси луча, создает свое магнитное поле, которое значительно влияет на пучок частиц на большем расстоянии от катушки в направлении луча, чем катушка с меньшим радиальным расстоянием от На оси луча можно изменять положение вдоль оси луча максимума магнитного поля, создаваемого двумя катушками вместе, путем задания токов в катушках, которые расположены на разных радиальных расстояниях от оси луча.

Катушки, описанные в вариантах осуществления, объясненных выше, представляют собой катушки первого типа, которые, когда они проводят ток, а другие катушки оптического устройства для частиц не проводят ток, создают по меньшей мере одно магнитное поле для воздействия на пучок частиц, Максимум магнитного поля на оси пучка располагается на расстоянии от катушек по оси пучка. В зависимости от конфигурации структуры направления магнитного потока в отношении ее магнитного сопротивления, эти катушки могут также создавать магнитное поле внутри отверстия для прохода луча в структуре направления магнитного потока, при этом магнитное поле также может создавать магнитное поле. воздействуют на луч, проходящий через аппарат.Если такое магнитное поле создается внутри отверстия, пучок частиц, проходящий через устройство, отклоняется в противоположных направлениях в двух областях, расположенных последовательно в направлении пучка. Следовательно, можно реализовать так называемый «двойной дефлектор».

Согласно примерным вариантам осуществления оптическое устройство для частиц дополнительно включает в себя, по меньшей мере, две катушки второго типа, каждая из которых имеет, по меньшей мере, один виток, причем катушки расположены в структуре направления магнитного поля таким образом, что, когда обе переносят ток, а другие катушки оптического устройства для частиц не переносят ток, они создают магнитное поле, которое имеет силовые линии, которые последовательно проходят через первую и вторую катушки второго типа, покидая направляющую магнитный поток структуру в четвертой части. место, которое расположено на второй стороне по отношению к оси луча, пересекает ось луча в пятом месте, повторно входит в структуру, направляющую магнитный поток, в шестом месте, которое расположено на первой стороне оси луча, и простираются вокруг отверстия от шестого местоположения до четвертого местоположения внутри структуры для направления магнитного потока, причем каждое из четвертого местоположения и шестое местоположение расположены на расстоянии от оси луча, которое меньше чем наименьшее расстояние витков катушек второго типа от оси пучка.

Катушки второго типа, следовательно, преимущественно создают магнитное поле, которое в отверстии направляющей магнитный поток структуры проявляет свое значительное влияние на влияние пучка частиц, проходящего через устройство. Следовательно, с помощью катушек второго типа можно управлять вышеупомянутым «двойным дефлектором» таким образом, чтобы относительные силы двух отклонений пучка частиц регулировались в двух противоположных направлениях.С этой целью устройство включает в себя, согласно примерным вариантам осуществления, систему источника питания, которая сконфигурирована для подачи регулируемых токов на катушки первого типа и катушки второго типа в каждом случае. Согласно примерным вариантам осуществления система источника питания включает в себя, по меньшей мере, один резистор для деления силы тока токов, подаваемых на катушки первого типа или второго типа, в зависимости от величины сопротивления. В частности, сопротивление можно изменять, чтобы изменять соотношение этих токов.В результате этого легко можно, например, создать «двойной дефлектор», который вызывает параллельное смещение луча.

Согласно примерным вариантам осуществления, структура для направления магнитного потока составлена ​​из множества металлических пластинчатых элементов, каждый из которых, в частности приблизительно, имеет форму круглого сектора и каждый из которых несет одну или несколько катушек первого типа на одна или обе плоские стороны. Некоторые или все пластинчатые элементы могут дополнительно нести одну или несколько катушек второго типа, намотанных вокруг элементов.Множество пластинчатых элементов может удерживаться кольцевой структурой, которая, в частности, может иметь такой вариант осуществления, что кольцевая структура обеспечивает путь магнитного потока вокруг оси луча.

В соответствии с вариантами осуществления изобретения дополнительно предусмотрена система пучка частиц, которая имеет источник частиц для создания пучка частиц, и, кроме того, оптическое устройство для частиц согласно варианту осуществления, объясненному выше, причем оптическое устройство для частиц является проходит через полученный пучок частиц.Источником частиц может быть источник электронов или источник ионов, и система пучка частиц может быть воплощена, в частности, в виде микроскопа частиц или системы пучка частиц для манипулирования объектами.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

Варианты осуществления раскрытия более подробно поясняются ниже на основе фигур, но раскрытие не ограничивается такими вариантами осуществления. На рисунках:

РИС. 1 представляет собой вид в разрезе оптического устройства для частиц согласно варианту осуществления;

РИС.2 — вид сверху оптического устройства для частиц, показанного на фиг. 1;

РИС. 3 представляет собой график, который показывает профиль дипольного поля, создаваемого оптическим устройством для частиц, показанным на фиг. 1 и 2 по оси пучка устройства;

РИС. 4 — вид в разрезе, соответствующий фиг. 1 оптического устройства для частиц согласно дополнительному варианту осуществления;

РИС. 5 — вид в разрезе, соответствующий фиг. 1 и 4, оптического устройства для частиц согласно еще одному варианту осуществления;

РИС.6 — вид сверху оптического устройства для частиц, показанного на фиг. 5;

РИС. 7 — вид в разрезе, соответствующий фиг. 1, 4 и 5 оптического устройства для частиц согласно еще одному варианту осуществления;

РИС. 8 — вид сверху оптического устройства для частиц, показанного на фиг. 7;

РИС. 9 — вид в разрезе, соответствующий фиг. 1, 4, 5 и 7 оптического устройства для частиц согласно еще одному варианту осуществления;

РИС. 10 — вид сверху оптического устройства для частиц, показанного на фиг.9;

РИС. 11 — схематическая иллюстрация системы питания катушек оптического устройства для частиц согласно одному варианту осуществления;

РИС. 12 — вид сверху, соответствующий фиг. 2, 6, 8 и 10 оптического устройства для частиц согласно дополнительному варианту осуществления;

РИС. 13 — вид в разрезе, соответствующий фиг. 1, 4, 5, 7 и 9 оптического устройства для частиц согласно еще одному варианту осуществления;

РИС. 14 — вид сверху оптического устройства для частиц, показанного на фиг.13;

РИС. 15 — график, который показывает профиль дипольного поля, создаваемого оптическим устройством для частиц, показанным на фиг. 13 и 14 по оси пучка устройства;

РИС. 16 — вид в разрезе, соответствующий фиг. 1, 4, 5, 7, 9 и 13 оптического устройства для частиц согласно еще одному варианту осуществления; и

ФИГ. 17 представляет собой схематическое изображение поперечного сечения оптической системы для частиц согласно варианту осуществления.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ПРИМЕРНЫХ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Вариант осуществления оптического устройства для частиц поясняется ниже на основе фиг.1-3. Здесь фиг. 2 показывает вид сверху устройства; фиг. 1 показано поперечное сечение устройства по линии I-I на фиг. 2 и фиг. 3 показывает кривую магнитного поля, создаваемого устройством, вдоль оси луча.

Оптическое устройство для частиц 1 , показанное на фиг. 1 и 2 включает в себя структуру 3 для направления магнитного потока, которая имеет, по существу, форму кольцевого диска, которая является симметричной относительно главной оси 5 . Система координат 7, , показанная на фиг.1 и 2 выбраны таким образом, чтобы их ось z была ориентирована параллельно главной оси 5 направляющей магнитного потока структуры и части 9 магнитного потока в форме кольцевого диска. направляющая структура 3 проходит в плоскости xy системы координат. Структура направления магнитного потока в показанном варианте осуществления дополнительно имеет круглую внешнюю кромку 11 и центральное отверстие 13 , которое ограничено внутренней кромкой 15 части 9 в форме кольцевого диска.Четыре катушки 19 прикреплены к стороне 17 вверху на фиг. 1, части 9 в форме кольцевого диска, каждая из катушек имеет один или несколько витков провода, подключенного к источнику питания, который не показан на фигурах, и который сконфигурирован для подачи регулируемого тока в каждую катушка. Если через катушку 19 протекает ток, последняя создает магнитное поле, как поясняется ниже.

Четыре катушки 19 распределены вокруг главной оси 5 в окружном направлении и расположены без перекрытия таким образом, что каждая из катушек 19 охватывает относительно большую площадь квадранта на лицевой стороне верхней стороны 17 кольцевидно-дисковой части 9 .

Предполагается, что нижняя катушка 19 и верхняя катушка 19 , показанные на фиг. 2 не пропускают ток, а правая катушка 19 и левая катушка 19 , показанные на фиг. 2 переносит ток, стрелками 21 на фиг. 2, указывающий направление тока. Этот поток тока создает магнитное поле B ₁ за пределами несущей магнитный поток структуры 3 , магнитное поле показано на фиг.1 четырьмя примерными линиями поля 23 ₁ , 23 ₂ , 23 ₃ и 23 ₄ . Силовые линии 23 ₁ , 23 ₂ , 23 ₃ и 23 ₄ выходят из магнитопроводящей структуры 3 в точках 25 ₁ , 25 ₂ , 25 ₃ и 25 ₄ на верхней стороне 17 кольцевой дискообразной части 9 и повторно входят в структуру, направляющую магнитный поток 3 в точках 27 ₁ , 27 ₂ , 27 ₃ и 27 ₄ на верхней стороне 17 .Здесь локации 27 ₁ и 25 ₁ , локации 27 ₂ и 25 ₂ , 27 ₃ и 25 ₃ , а также 27 ₄ и 25 ₄ лежат диаметрально противоположно друг другу относительно главной оси 5 . Линии поля 23 ₁ до 23 ₄ пересекают главную ось 5 в точках 29 ₁ , 29 ₂ , 29 ₃ и 29 ₄ соответственно.На главной оси 5 линии поля , 23, ориентированы в направлении x и, следовательно, ортогональны главной оси 5 . Ясно, что магнитное поле B ₁ имеет симметрию дипольного поля относительно главной оси 5 . Следовательно, это магнитное поле B ₁ подходит для обеспечения того, чтобы пучок заряженных частиц 31 направлялся на оптическое устройство для частиц 1 вдоль главной оси 5 сверху на фиг.1 испытывает отклонение таким образом, что пучок частиц отклоняется на угол α в направлении y по отношению к главной оси 5 , когда он выходит из оптического устройства для частиц 1 после прохождения через отверстие 13 в магнитопроводящая структура 3 . Отклонение в направлении y осуществляется за пределы плоскости чертежа в разрезе на фиг. 1. Однако отклонение показано как изгиб линии 31, , представляющей пучок заряженных частиц на фиг.1, чтобы обозначить это отклонение на чертеже.

РИС. 3 показан график с кривой 32 , которая представляет напряженность x-компоненты магнитного поля B ₁ в миллитеслах как функцию z-положения в миллиметрах вдоль главной оси 5 . Здесь противоположные катушки 19, возбуждаются амперным витком. Из кривой 32 видно, что максимум поля B _x (z) вдоль главной оси 5 имеет максимум в позиции z _m , равный примерно 8 мм.График на фиг. 3 дополнительно изображает положение в направлении оси z одной из катушек 19 и структуры 3 направления магнитного потока. Местоположение z _s внутри катушки 19 , которое расположено ближе всего к максимуму на z _m в случае проекции на главную ось 5 , обозначено z _s на фиг. 3 и составляет приблизительно z = 2 мм. Ясно, что максимум магнитного поля B _x (z) на главной оси 5 расположен на расстоянии примерно 6 мм от катушек, создающих магнитное поле.Максимальное расстояние от главной оси 5, , предполагаемое местоположениями, расположенными внутри катушек, обозначено r _max на фиг. 2 и составляет примерно 44 мм. Следовательно, отношение

zm-zsrmax
составляет приблизительно 0,14 и, следовательно, больше 0,02, в частности больше 0,05, в частности больше 0,07 и, в частности, больше 0,10.

Следовательно, оптическое устройство для частиц 1 может использоваться для воздействия на пучок частиц 31 , который проходит вдоль главной оси 5 в направлении оптического устройства для частиц 1 в областях вдоль главной оси 5 , которые расположены на расстоянии от компонентов 9 , 19 , образующих оптическое устройство для частиц, вдоль главной оси 5 .Это свойство пространственного разделения вдоль главной оси компонентов, образующих оптическое устройство для частиц, и мест, в которых магнитное поле, создаваемое этими компонентами, действует на пучок частиц, открывает новые области использования оптического устройства для частиц в оптических систем для частиц и увеличивает гибкость в разработке новых оптических систем для частиц.

Это свойство также показано в геометрическом соотношении, поясняемом ниже: Фиг. 3 показано положение z ₀ , в котором магнитное поле, ориентированное перпендикулярно оси луча, имеет свой центр тяжести.Этот центроид можно вычислить по следующей формуле:

z0 = ∫z⁢⁢minz⁢⁢max⁢zB⊥⁡ (z) ⁢dz∫z⁢⁢minz⁢⁢max⁢B⊥⁡ (z) ⁢dz

Пределы интегрирования z _мин. и z _макс. следует выбирать в зависимости от обстоятельств. Из фиг. 3 видно, что никаких значительных вкладов в интегралы не возникает за пределами диапазона от -2 мм до +60 мм, и поэтому эту область можно выбрать в качестве области интегрирования. Также можно выбрать другие значения для z _мин. и z _макс. , например, −100 мм и +100 мм.

В приведенном здесь примере z ₀ равно 16 мм. Кроме того, фиг. 3 показано местоположение {стрелка вправо над (r)} ₀ , в котором геометрия катушки 19 имеет центр тяжести действия. Это местоположение можно рассчитать по следующей формуле, которая была объяснена выше:

r → 0 = argmaxr → s⁢∫0L⁢r → -r → sr → -r → s3 × dl → 

В объясненном примере это местоположение {стрелка вправо над (r)} ₀ находится на расстоянии 16 мм от оси z.На фиг. 3 ссылочная позиция 20 обозначает соединительную линию между местоположением {стрелка вправо над (r)} ₀ , которое вычисляется на основе геометрии катушки 19 , и местоположением, не проиллюстрированным на фиг. 3, который был рассчитан из геометрии катушки, лежащей напротив катушки 19 , показанной на фиг. 3 относительно оси луча и описывает фокус его действия. Из-за симметрии расположения катушек, показанного на фиг.1 и 2, эта линия 20, ортогональна оси z на фиг. 3 и пересекает последний. Однако в общем случае это не обязательно. Линия 20 имеет длину 32 мм и расстояние 15 мм от местоположения z ₀ . Следовательно, отношение расстояния местоположения z ₀ от соединительной линии 20 к длине соединительной линии 20 или к расстоянию между местоположениями {стрелка вправо над (r)} ₀ из две катушки 19 друг от друга имеют значение 0.47. Величина этого значения также демонстрирует свойство оптического устройства для частиц, заключающееся в способности обеспечивать эффективное отклоняющее магнитное поле вне структуры, которая создает магнитное поле.

Силовые линии магнитного поля, создаваемого катушками 19 , должны быть замкнуты. На фиг. 2 две линии 35 иллюстрируют, как полевая линия 23 ₂ , показанная на фиг. 1 в качестве примера, проходит внутри структуры, направляющей магнитный поток, после ее входа в последнюю в местоположении 27 ₂ , до местоположения 25 ₂ , откуда он выходит из магнитного поля. -водоводная конструкция 3 .Соответственно, силовая линия разделяется после входа в местоположение 27 ₂ и в структуре направления магнитного потока проходит вокруг отверстия 13 в структуре направления магнитного потока 3 до местоположения 25 ₂ .

Далее на фиг. 2 минимальное расстояние от главной оси 5 , которое предполагается в пределах катушек 19 , обозначено r _min . Расстояние от главной оси 5 местоположения 25 ₁ , на котором линия поля 23 ₁ , показанная в качестве примера, выходит из магнитопроводящей структуры 3 , обозначено на d ₁ и расстояние от главной оси 5 местоположения 27 ₁ , на котором эта силовая линия 23 ₁ входит в магнитопроводящую структуру 3 , составляет Обозначается d ₃ .Что применимо ко всем линиям поля, показанным в качестве примера на фиг. 1 состоит в том, что d ₁ больше, чем r _min , и что d ₃ больше, чем r _min . Это также соответствует тому факту, что силовые линии, показанные в качестве примера, проходят через две катушки, которые лежат друг напротив друга относительно главной оси 5, , последовательно.

На ФИГ. 1, расстояние вдоль главной оси 5 от магнитопроводящей структуры 3 местоположения 29 ₁ , на котором силовая линия 23 ₁ , показанная в качестве примера, пересекает главная ось 5 , обозначается d ₂ .В случае симметрии структуры 3 направления магнитного потока и катушек 19 , показанных на фиг. 1 и 2, применяется d ₁ = d ₃ . Однако это может не удовлетворяться в случае изменения геометрии магнитопроводящей структуры и катушек. Кроме того, можно сформировать отношение

d2d1 + d3 = x,
, чтобы быть точным для каждой возможной силовой линии поля B ₁ , которая выходит из магнитопроводящей структуры 3 в первом месте. ( 25 ), пересекает главную ось 5 во втором месте ( 29 ) и повторно входит в структуру 3 направления магнитного потока в третьем месте ( 27 ).Для силовой линии 23 ₁ , показанной на фиг. 1 в качестве примера, применяется x = 0,385, x = 0,415 применяется к строке поля 23 ₂ , x = 0,505 применяется к строке поля 23 ₃ и x = 0,660 применяется к строке поля 23 ₄ . Из этого ясно, что магнитное поле B ₁ имеет силовые линии, для которых отношения x ₁ и x ₃ больше 0,5, в частности больше 0.7 и, в частности, больше 1,0. Однако эти условия не обязательно должны применяться ко всем силовым линиям магнитного поля B ₁ . Значения этих соотношений также отражают свойство профиля магнитного поля, показанного на фиг. 3, вдоль главной оси 5 , согласно которой магнитное поле влияет на пучок частиц 31 в областях, которые расположены на расстоянии вдоль главной оси 5 от компонентов 9 , 19 , которые образуют оптический аппарат 1 .

Профиль магнитного поля B ₁ достигается за счет того, что каждая из катушек 19 сама по себе создает магнитное поле, которое показано на фиг. 1 по векторам {стрелка вправо над (B)} _s . Из фиг. 1 видно, что магнитное поле (стрелка вправо над (B)} _s , создаваемое каждой катушкой 19 , имеет ориентацию, параллельную главной оси 5 . На практике магнитное поле {стрелка вправо над (B)} _s не обязательно должно быть ориентировано точно параллельно главной оси 5 , и, в зависимости от конфигурации структуры, направляющей магнитный поток, оно может быть ориентировано , например, под углом в несколько градусов по отношению к главной оси 5 , так что, тем не менее, преобладающий компонент магнитного поля {стрелка вправо над (B)} _s ориентирован в направлении главная ось 5 .Этот факт приводит к тому, что магнитное поле имеет силовые линии, которые пересекают главную ось 5 на сравнительно большом расстоянии вдоль оси 5 от компонентов устройства 1 .

Вектор {стрелка вправо над (B)} _s , характеризующий магнитное поле каждой из катушек 19 , может быть определен следующим образом: первоначально положение {стрелка вправо над (r)} _s при вектор {стрелка вправо над (B)} _s прикреплен своей ножкой или концом в области соответствующей катушки 19 .Местоположение {стрелка вправо над (r)} _s может быть определено посредством вычисления центра масс соответствующей катушки по линейному интегралу вдоль витков катушки, согласно формуле (1) ниже:

r → s = 1L⁢∫0L⁢r → ⁢⁢dl (1)

Здесь L обозначает длину провода, образующего витки катушки, который проходит по кривой {стрелка вправо над (r)} (l) в космосе, где 0≤l≤L.

Магнитное поле {стрелка вправо над (B)} ({стрелка вправо над (r)}) _s в месте {стрелка вправо над (r)} _s затем может быть определено с помощью численного моделирования, например с использованием метода конечных элементов.

Дальнейшие варианты осуществления оптического устройства для частиц описаны ниже на основе дополнительных фигур. В следующем описании компоненты, которые соответствуют компонентам, показанным на фиг. 1-3 в отношении их свойств и / или функций обозначены одним и тем же ссылочным знаком. Как правило, будут объяснены различия между различными вариантами осуществления, а описание сходства опущено, чтобы получить желаемую краткость описания. Следовательно, следует сделать ссылку на описание выше и описание ниже для понимания каждого варианта осуществления.

РИС. 4 показывает поперечное сечение, соответствующее фиг. 1, через оптическое устройство 1 для частиц согласно другому варианту осуществления. Это оптическое устройство 1 для частиц также включает в себя четыре катушки 19 , которые расположены распределенным образом вокруг главной оси 5 в окружном направлении, и структуру для направления магнитного потока 3 , которая имеет центральную открытие 13 . В отличие от оптического устройства для частиц, показанного на фиг.1 тело 9 , образующее структуру 3 для направления магнитного потока, выполнено не с геометрией плоского диска, а с геометрией конуса. Соответственно, витки катушек , 19, расположены не планарно в плоскости xy, а вдоль кривой, продолжающейся с кривизной в пространстве.

Векторы {стрелка вправо над (B)} _s , которые характеризуют магнитное поле, создаваемое каждой из катушек 19 , также показаны на фиг.4. Из-за конической конфигурации корпуса 9 , который образует направляющую магнитное поле структуру 3 , векторы {стрелка вправо над (B)} _s не ориентированы параллельно главной оси 5 , как и на фиг. 1, но под углом β к нему. Этот угол β составляет менее 60 °, в частности, менее 50 ° и, в частности, менее 40 °, и приводит к тому, что силовые линии создаваемого магнитного поля пересекают главную ось 5 на расстоянии вдоль главной оси 5 от магнитопроводящая структура.

Это свойство магнитного поля {стрелка вправо над (B)} _s , соответственно, создаваемого катушками, также может быть получено в случае других геометрических форм структуры магнитного потока и катушек, чем те, которые показаны на Фиг. 1, 2 и 4. Что касается конструкции, корпус 9 , который образует структуру, направляющую магнитный поток 3 , может сильно варьироваться до тех пор, пока выполняется условие, что угол между главной осью 5 , вдоль которого пучок заряженных частиц также может распространяться во время операции для воздействия, а вектор {стрелка вправо над (B)} _s меньше 60 °, меньше 50 ° или меньше 40 °.В геометрии, показанной на фиг. 4, использование приведенного выше уравнения (1) для расчета местоположения {стрелка вправо над (r)} _s , в котором прикрепляется основание или кончик вектора {стрелка вправо над (B)} _s , нецелесообразно поскольку, если использовать формулу (1), вычисленное значение {стрелка вправо над (r)} _s , которое соответствует центру масс катушки 19 , будет расположено на нижней стороне 18 конус 9 , где в вакууме магнитное поле не создается.Здесь выгодно определять местоположение {стрелка вправо над (r)} _s посредством поиска максимума абсолютного значения магнитного поля, создаваемого катушкой 19 в окружении оптического датчика частиц. Аппарат 1 . Это может быть выполнено экспериментально или посредством численного моделирования для достаточного множества различных местоположений в окрестностях устройства и выбора местоположения, в котором соответственно рассчитанное магнитное поле имеет наибольшее абсолютное значение.Этот способ вычисления местоположения {стрелка вправо над (r)} _s также можно использовать в случае устройства, объясненного на основе фиг. 1-3, и в случае устройств, описанных ниже. Это может привести к немного иному местоположению {стрелка вправо над (r)} _s , чем в случае вычисления по формуле (1), имея, как следствие, немного другой вектор {стрелка вправо над (B)} _s также; однако к вектору также применимо то, что угол вектора по отношению к главной оси 5 будет меньше 60 °, меньше 50 ° или меньше 40 °.

Положения {стрелка вправо над (r)} ₀ , объясненные выше, которые были вычислены согласно формуле, объясненной выше, также нанесены на график на фиг. 4. Эти местоположения описывают свойства геометрии катушек 19 и совпадают с местоположениями, которые могут появиться в случае соответствующего применения формулы Био-Савара для расчета магнитных полей. Однако ясно, что по существу магнитное поле отсутствует в месте {стрелка вправо над (r)} ₀ из-за структуры, направляющей магнитный поток, поскольку катушка 19, не является воздушной катушкой.

Другой вариант оптического устройства для частиц 1 показан на фиг. 5 и 6; а точнее на виде сверху на фиг. 6 и в поперечном сечении по линии V-V, показанном на фиг. 6 на фиг. 5. Конфигурация оптического устройства 1 для частиц по фиг. 5 и 6, во многом аналогична конфигурации оптического устройства для частиц, объясненной на основе фиг. 1-3, но существенно отличается от последнего тем, что в кольцевой пластине 9 , которая образует структуру для направления магнитного потока 3 , предусмотрены прорези 41 , идущие от внутреннего края 15 отверстие 13 в структуре 3 направления магнитного потока, проходящее радиально наружу относительно главной оси 5 .Эти прорези 41 изменяют магнитное сопротивление структуры 3 направления магнитного потока по отношению к потоку магнитного поля. В частности, прорези , 41, предотвращают профиль силовых линий, как показано на фиг. 2 по строкам 35 . Это магнитное сопротивление приводит к части силовой линии 23 ₂ , которая в качестве примера показана на фиг. 5 и входит в направляющую магнитный поток структуру 3 в местоположении 27 ₂ , проходя вдоль линии, обозначенной на фиг. 43 .6, вокруг отверстия 13 и прорезей 41 , чтобы достичь местоположения 25 ₂ , в котором он снова выходит из направляющей магнитный поток структуры 3 . Вторая часть силовых линий проходит внутри магнитопроводящей структуры 3 от местоположения 27 ₂ до главной оси 5 , выходит на край 15 отверстия 13 из структура 3 , направляющая магнитный поток, пересекает главную ось в вакууме и после этого снова входит в структуру направления магнитного потока краем 15 , чтобы прибыть в местоположение 25 ₂ .

Следовательно, в структуре, направляющей магнитный поток, возникают два типа путей потока, причем один тип, показанный в качестве примера линиями 43 на фиг. 6, проходит вокруг отверстия , 13, , и другого типа, показанного в качестве примера линией 45 на фиг. 6, проходит через отверстие 13 и, следовательно, приводит к магнитному полю B ₂ на главной оси 5 , которое аналогичным образом влияет на пучок частиц 31 , проходящий через оптическое устройство для частиц 1 .На фиг. 5 это магнитное поле B ₂ проиллюстрировано тремя примерными силовыми линиями 47 . В результате этого магнитного поля B ₂ , пучок частиц 31 после отклонения в направлении магнитного поля B ₁ , которое формируется на расстоянии вдоль оси 5 от устройства 1 , отклоняется в противоположном ему направлении при прохождении через отверстие 13 в структуре 3 направления магнитного потока.Абсолютные значения углов отклонения, создаваемые полем B ₁ и полем B ₂ , не обязательно должны быть равны. ИНЖИР. 5 иллюстрирует ситуацию, в которой абсолютные значения этих углов отклонения, однако, одинаковы, и поэтому пучок частиц 31 проходит параллельно главной оси 5 снова после прохождения через оптическое устройство частиц 1 , пучок частиц также приблизился к оптическому устройству 1 вдоль главной оси.Однако после прохождения через устройство оптики частиц 1 , пучок частиц 31, смещается на абсолютное значение m в направлении y относительно прямой линии, по которой он приближается к устройству оптики частиц 1 . Отклонение в направлении y осуществляется за пределы плоскости чертежа в разрезе на фиг. 5. Однако, как и на фиг. 1 отклонения показаны на фиг. 5 в виде изгибов на линии 31, , представляющей пучок заряженных частиц, чтобы идентифицировать эти отклонения на чертеже.

Дальнейший вариант осуществления оптического устройства для частиц теперь поясняется на основе фиг. 7 и 8, при этом на фиг. 8 показан вид сверху оптического устройства 1 для частиц, а на фиг. 7 показано поперечное сечение по линии VII-VII на фиг. 8. Оптическое устройство для частиц 1 , показанное на фиг. 7 и 8 существенно отличается от оптического устройства для частиц, показанного на фиг. 5 и 6, с точки зрения конфигурации прорезей 41 , которые предусмотрены в кольцевой пластине 9 , которая образует структуру 3 направления магнитного потока.По сравнению с фиг. 6 прорези 41 на фиг. 8 проходят дальше в радиальном направлении наружу относительно главной оси , 5, устройства, а также частично проходят в этом направлении в окружном направлении. Это приводит к пути магнитного потока, показанному линиями 43, на фиг. 6, который проходит вокруг отверстия 13 , испытывая еще большее магнитное сопротивление. По сравнению с вариантом, показанным на фиг. 5 и 6, это приводит к еще большей доле силовых линий, проходящих вдоль пути потока, показанного линией 45, на фиг.6 и выходит из структуры 3 направления магнитного потока на краю 15 отверстия 13 , пересекает главную ось 5 и затем снова входит в структуру 3 направления магнитного потока. Это, в свою очередь, приводит к увеличению напряженности магнитного поля B ₂ относительно напряженности магнитного поля B ₁ по сравнению с вариантом осуществления, показанным на фиг. 5 и 6. На фиг. 7 это представлено четырьмя иллюстративными силовыми линиями 47 , показанными для магнитного поля B ₂ , в отличие от трех иллюстративных силовых линий 47 для магнитного поля B ₂ , показанных на фиг.5.

Из сравнения вариантов осуществления, проиллюстрированных на основе фиг. 5 и 6, с одной стороны, и варианты осуществления, проиллюстрированные на основе фиг. 7 и 8, с другой стороны, ясно, что соотношение эффектов, оказываемых магнитными полями B ₁ и B ₂ на пучок частиц, проходящий через устройство, можно регулировать с помощью геометрической конструкции прорезей . 41 в магнитопроводящей структуре. Это приводит к тому, что пучок частиц, проходящий через оптическое устройство для частиц, испытывает последовательно два отклонения во взаимно противоположных направлениях, причем соотношение абсолютных значений соответствующих углов отклонения может быть задано геометрией прорезей 41 в магнитном поле. -водоводная конструкция 9 .Устанавливая ток, протекающий через витки катушек , 19, , можно изменять величину соответствующего угла отклонения при сохранении отношения абсолютных значений углов отклонения.

Теперь на фиг. 9 и 10 используются для объяснения варианта осуществления, в котором также можно установить отношение абсолютных значений углов отклонения двух последовательных отклонений, испытываемых пучком частиц посредством магнитных полей B ₁ и B _{. 2} .Здесь, опять же, фиг. 10 — вид сверху оптического устройства для частиц, а фиг. 9 — вид в разрезе по линии IX-IX на фиг. 10.

Оптическое устройство для частиц 1 по фиг. 9 и 10, опять же, имеет четыре катушки 19, типа, как объяснено в предыдущих вариантах осуществления. Структура, направляющая магнитный поток, снова имеет конструкцию, по существу, в форме кольцевого диска. Однако в данном случае он состоит из отдельных элементов, а именно четырех секторных пластин 9 ₁ , 9 ₂ , 9 ₃ и 9 ₄ и наружных колец 51 , к которым винтами 53 соединены сектора 9 ₁ — 9 ₄ .Секторы 9 ₁ — 9 ₄ удерживаются внешними кольцами 51 таким образом, что они не соприкасаются, и в результате этого пазы 41 снова существуют в структура 3 для направления магнитного потока между секторами, при этом прорези увеличивают сопротивление путей магнитного потока вокруг отверстия 13 . Однако внешние кольца 51, создают пути магнитного потока, которые проходят вокруг отверстия 13 .Магнитное сопротивление этих путей потока может быть дополнительно увеличено за счет изготовления наружных колец 51, из материала, который имеет относительно низкую намагничиваемость. В частности, намагничиваемость материала, из которого изготовлены наружные кольца 51 , в этом случае может быть меньше, чем намагничиваемость материала, из которого изготовлены секторные пластины 9 ₁ , 9 ₂ , 9 ₃ и 9 ₄ .

Каждая из секторных пластин 9 ₁ — 9 ₄ несет одну из катушек 19 этого первого типа, как это также имеет место в вариантах осуществления, объясненных выше. Кроме того, каждая из секторных пластин 9 ₁ — 9 ₄ несет катушку 55 второго типа. Катушки 55 могут, в свою очередь, иметь один или несколько витков и располагаться на внешнем крае пластин с 9 ₁ до 9 ₄ по отношению к главной оси 5 и намотаны вокруг соответствующей пластины, так что витки катушек 55 проходят не только вдоль верхней стороны 17 каждой пластины 9 , но также и вдоль ее нижней стороны 18 .

Следовательно, ток, протекающий через правую катушку 55 на ФИГ. 10 и через левую катушку 55 на фиг. 10 создает силовые линии, которые проходят к главной оси 5 , например, в пластине 9 ₂ , выходят на край 15 отверстия 13 в структуре направления магнитного потока 3 от последнего пересечь основную ось 5 и снова войти в структуру, направляющую магнитный поток 3 с противоположной стороны, и, следовательно, внести вклад в магнитное поле B ₂ , что показано линиями поля 47 на ФИГ.9, для отклонения пучка частиц при прохождении через отверстие 13 .

Затем эти силовые линии проходят дальше в пластине 9 ₄ в радиальном направлении наружу, проходят через катушку 55 , расположенную слева на фиг. 10, а затем продолжаются назад через внешнее кольцо 51 к катушке 55 , которая расположена справа и проиллюстрирована на фиг. 10. Катушка 55 , расположенная слева на фиг. 10 не показан на фиг.10, чтобы сделать видимой конфигурацию части пластины 9 ₄ , которая несет катушку 55 .

Следовательно, можно установить соотношение абсолютных значений углов отклонения изгибов, последовательно испытываемых пучком частиц 31 при прохождении через магнитные поля B ₁ и B ₂ посредством коэффициент, с которым катушки первого типа 19 и катушки 55 второго типа возбуждаются токами, подаваемыми в них.Подходящая для этого система 57, питания схематично проиллюстрирована на фиг. 11. Эта система электропитания 57 питает две катушки 19 первого типа, лежащие друг напротив друга относительно главной оси 5 , и две катушки 55 второго типа, также лежащие друг напротив друга. по главной оси 5 . Эти четыре катушки 19 , 55 питаются от одного источника питания 59 , при этом подаваемый ток регулируется.Резистор делителя 63 подключен к источнику питания 59 параллельно катушкам 19 , 55 . Резистор 61 соединяет точку между катушками 19 и 55 и точку деления резистора делителя 63 . Изменяя сопротивление 63 , можно изменять соотношение токов, подаваемых на катушки 19 первого типа и на катушки 55 второго типа.Это приводит к изменению соотношений абсолютных значений углов отклонения двух отклонений посредством магнитных полей B ₁ и B ₂ . Изменяя ток, обеспечиваемый источником 59 питания, можно изменять углы отклонения, сохраняя при этом их соотношение, которое задано сопротивлением 63 .

Однако также возможно питание катушек 19 и 55 от отдельных источников питания.Это приводит к большей гибкости, поскольку знак отношения токов, подаваемых на пару катушек 19 и пару катушек 55 , также можно регулировать. Тогда также возможно, чтобы отклонение пары 19, катушек осуществлялось в другом направлении в плоскости xy, чем отклонение парой 55 катушек. В таком случае луч, выходящий из оптического устройства для частиц, имеет перекос относительно луча, входящего в оптическое устройство для частиц.

В вариантах осуществления, описанных выше, оптическое устройство для частиц 1 в каждом случае имеет четыре катушки 19 первого типа, причем катушки 19 соответственно показаны слева и справа на фиг. 2, 6, 8 и 10, имеющий ток, протекающий через них таким образом, что дипольное поле, ориентированное в направлении x, возникает на главной оси 5 . Ориентация этого дипольного поля в окружном направлении вокруг главной оси может быть изменена посредством подачи тока на катушки 19, , показанные сверху и снизу на фиг.2, 6, 8 и 10. Если бы ток подавался только на катушки 19 , показанные сверху и снизу на этих фигурах, катушки создавали бы дипольное поле, ориентированное в направлении y на главной оси 5 . Установив соотношение токов, подаваемых на катушки, показанные слева и справа, с одной стороны, и на катушки, показанные вверху и внизу, с другой стороны, можно установить ориентацию диполя. поле, создаваемое на главной оси в окружном направлении вокруг главной оси по желанию.

РИС. 12 показан еще один вариант осуществления оптического устройства 1, для частиц на виде сверху, который соответствует иллюстрациям на фиг. 2, 6, 8 и 10. В отличие от вариантов осуществления, объясненных выше, вариант осуществления оптического устройства для частиц, показанного на фиг. 12 не включает четыре, а восемь катушек , 19, первого типа, которые расположены распределенными вокруг главной оси 5 оптического устройства для частиц в окружном направлении.Подавая соответствующие токи на эти восемь катушек 19 , можно создать магнитное поле B ₁ , которое может воздействовать на пучок частиц вдоль оси пучка 5 на расстоянии от оптического устройства для частиц 1 и который имеет симметрию дипольного поля или квадрупольного поля или квадрупольного поля, на которое наложено дипольное поле, которое регулируется с учетом его силы и ориентации относительно главной оси 5 .В качестве примера, используя такое квадрупольное поле, можно изменить астигматизм пучка частиц, проходящего через оптическое устройство 1 для частиц.

РИС. 3 использовался для пояснения, что максимум магнитного поля B ₁ , создаваемого катушками 19 первого типа, расположен вдоль главной оси 5 на расстоянии от компонентов 19 , 9 частицоптического аппарата. Фиг. 13, 14 и 15 теперь используются для объяснения варианта осуществления оптического устройства 1 для частиц, в котором это расстояние регулируется.Здесь фиг. 14 показывает иллюстрацию, соответствующую фиг. 2, 6, 8 и 10, на котором показан вид сверху оптического устройства для частиц 1 , фиг. 13 показывает оптическое устройство для частиц в разрезе по линии XIII-XIII на фиг. 14 и фиг. 15 показывает иллюстрацию, соответствующую фиг. 3, на котором показаны профили магнитных полей, создаваемых этим устройством, вдоль главной оси 5 . В отличие от вариантов осуществления, объясненных выше, оптическое устройство 1, для частиц, поясненное на основе фиг.14 и 15 имеет два разных типа катушек 19 первого типа, а именно первый вид катушек 19 ₁ и второй вид катушек 19 ₂ . Здесь катушки 19 ₁ первого сорта расположены на большем расстоянии от главной оси 5 , чем катушки 19 ₂ второго сорта. Катушки 19 ₂ второго типа создают магнитное поле B ₁₂ , которое проиллюстрировано типичными силовыми линиями 23 ₁₂ , 23 ₂₂ и 23 ₃₂ на фиг.13. Катушки 19 ₁ первого типа создают магнитное поле B ₁₁ , которое проиллюстрировано на фиг. 13 примерными линиями поля 23 ₄₁ , 23 ₅₁ и 23 ₆₁ . Ясно, что магнитное поле, создаваемое катушками 19 ₁ первого сорта, действует на большем расстоянии вдоль главной оси 5 от оптического устройства 1 , чем магнитное поле B ₁₂ производятся катушки 19 ₂ второго сорта.Это также следует из графика на фиг. 15, который иллюстрирует профиль величины магнитного поля, создаваемого катушками 19 ₁ первого сорта при возбуждении с витком Ампера вдоль главной оси 5 с использованием кривой 23 ₁ и абсолютное значение магнитного поля B ₁₂ , создаваемого катушками 19 ₂ второго сорта при возбуждении с витком Ампера вдоль главной оси в виде кривой 32 ₂ .Максимум кривой 32 ₁ находится в положении z _m1 примерно 8 мм, а максимум кривой 32 ₂ находится в положении z _м2 примерно 4 мм. Следовательно, расстояние z _m1 −z _s от максимума магнитного поля, создаваемого катушками 19 ₁ первого сорта от компонентов оптико-частиц, составляет примерно 6 мм, а соответствующее расстояние z _м2 −z _s магнитного поля, создаваемого катушками 19 ₂ второго сорта, составляет примерно 2 мм.Устанавливая соотношение тока, протекающего через катушки 19 ₁ первого типа и катушки 19 ₂ второго сорта, следовательно, можно изменить положение максимума поля, производятся вместе катушками 19 ₁ и 19 ₂ , между z _м2 и z _m1 непрерывно.

Катушки 19 ₁ первого сорта и катушки 19 ₂ второго сорта могут возбуждаться от отдельных источников питания по очереди.Однако также возможно возбуждать соответственно две катушки 19 ₁ первого сорта, лежащие друг напротив друга относительно главной оси 5 , и катушки 19 ₂ второго сорта радиально. рядом с ним посредством единственного источника тока, как поясняется на основе фиг. 11. Затем два таких источника питания будут задействованы для четырех катушек 19 ₁ первого типа и четырех катушек 19 ₂ второго типа, как показано на фиг.14. Положение максимума полей, создаваемых вместе катушками 19 ₁ и 19 ₂ , затем может быть установлено путем изменения настройки резисторов 63 двух схем 57 в соответствии с на фиг. 11.

В вариантах осуществления, объясненных выше, катушки , 19, первого типа расположены соответственно на одной стороне структуры направления магнитного потока, а именно на верхней стороне 17 направляющей магнитного потока. структура 3 на иллюстрациях фиг.1, 5, 7, 9 и 13. Фиг. 16 показан разрез варианта воплощения оптического устройства 1 , в котором катушки 19 первого типа расположены как на верхней стороне 17 , так и на нижней стороне 18 магнитного потока. -направляющая 3 . Катушки 19 , расположенные на верхней стороне 17 структуры направления магнитного потока 3 , создают магнитное поле B ₂ , которое действует на пучок частиц 31 над структурой направления магнитного потока 3 на ФИГ.16, как и в вариантах осуществления, проиллюстрированных выше. Катушки 19 первого типа, расположенные на нижней стороне 18 структуры направления магнитного потока 3 , создают магнитное поле B ₃ , которое действует на пучок частиц 31 ниже магнитного потока. -направляющая конструкция на фиг. 16. Посредством соответствующего подвода токов к катушкам 19 , которые расположены на верхней стороне 17 и нижней стороне 18 структуры для направления магнитного потока 3 , можно установите два магнитных поля B ₁ и B ₃ в соответствии с желаемыми величинами и ориентацией.В частности, поэтому можно, среди прочего, обеспечить так называемый «двойной дефлектор» для пучка частиц, проходящего через оптическое устройство для частиц 1 .

Вариант осуществления, показанный на фиг. 16 может быть усовершенствован, например, посредством введения пазов 41 в структуру 3 направления магнитного потока. Эти прорези 41 , в свою очередь, создают магнитное поле B ₂ , показанное на фиг. 5 и 7, возникающие в области отверстия 13 в структуре направления магнитного потока 3 , так что в целом можно создать три магнитных поля: B ₁ , B ₂ и B ₃ для отклонения пучка частиц.Если, кроме того, дополнительно предусмотрены катушки 55 второго типа, каждое из полей B ₁ , B ₂ и B ₃ может быть изменено индивидуально путем смешивания токов катушек для получения «тройного дефлектор », в котором свободно регулируются три угла отклонения. В качестве примера такой «тройной дефлектор» можно использовать для выборочного направления пучка частиц на два или более отверстий или отверстий с разной геометрией в пластине, которая расположена вдоль главной оси 5 в области открытие 13 , а затем снова направить пучок частиц обратно на главную ось 5 .Следовательно, отверстия с разной геометрией могут действовать на балку как разные упоры.

РИС. 17 показывает оптическую систему 71 для частиц, которая включает в себя вариант осуществления оптического устройства 1 , описанного выше. Оптическая система для частиц включает в себя источник 73 частиц для создания пучка заряженных частиц, который проходит через оптическую систему для частиц 71 вдоль главной оси 5 . Источник 73 частиц имеет катодный наконечник 75 , подавляющий электрод 77 и вытяжной электрод 79 .Заряженные частицы, испускаемые кончиком катетера 75 , проходят через отверстие в экстракционном электроде 79 и ускоряются по направлению к аноду 81 , проходят через отверстие в аноде 81 и попадают в лучевую трубку 83 . Кроме того, оптическое устройство 71 для частиц может иметь, например, столик, на котором можно разместить объект, при этом пучок частиц направляется на объект после прохождения через трубку луча , 83, и линзу объектива.

Элементы 75 , 77 и 79 изолированы друг от друга изоляторами 76 , а анод 81 также электрически изолирован изолятором 82 от остальной системы 71 . Согласно одному примеру, потенциал кончика катетера , 75, составляет -20 кВ, потенциал подавляющего электрода 77, составляет -20,3 кВ, потенциал экстракционного электрода составляет -16 кВ, а потенциал анода 81 — 8 кВ.Источник напряжения для подачи этих потенциалов на различные компоненты не показан на фиг. 17. Источник 73, частиц расположен в сверхвысоком вакууме, чтобы способствовать полевой эмиссии электронов из кончика катетера , 75, . На практике трудно отрегулировать кончик катетера 75 , подавляющий электрод 77 , экстракционный электрод 79 и анод 81 с такой большой точностью относительно главной оси 5 , что образовавшаяся частица луч также проходит с желаемой точностью вдоль главной оси.Кроме того, желательно, чтобы луч частиц проходил через линзу конденсатора , 85, по центру его оптической оси, чтобы уменьшить влияние аберраций линзы на фокусировку луча. Следовательно, желательно предусмотреть отражатель луча между анодом 81 и линзой конденсатора 85 , чтобы иметь возможность устанавливать положение луча относительно главной оси 5 .

Оптическая система для частиц, показанная на фиг.17 дополнительно включает в себя конденсорную линзу 85 для коллимирования пучка частиц, создаваемого источником 73 частиц. С этой целью конденсорная линза 85 имеет корпус катушки 87 и полюсный наконечник 89 , которые расположены на расстоянии друг от друга и создают магнитное поле, которое создает эффект фокусирующей круглой линзы на пучок частиц.

Кроме того, желательно расположить линзу конденсатора 85 как можно ближе к источнику частиц 73 , чтобы избежать сильного расширения луча перед линзой конденсора 85 .Следовательно, пространство для установки дефлектора, пространство для установки, учитывая его протяженность вдоль главной оси 5 , сравнительно небольшое, доступно между узлом линзы конденсатора 85 и узлом 81 из анод с соответствующим изолятором 82 . Оптическое устройство 1 для частиц, описанное выше, может быть выгодно введено в это ограниченное пространство для установки, чтобы его можно было использовать там в качестве дефлектора луча для регулировки луча частиц, с магнитным полем, создаваемым для отклонения луча, действующим в области анод 81 .

История балансирной балки

US 8,520,280 B2 — Способ и устройство для динамического смещения светового луча относительно оптики, фокусирующей световой луч

1.Устройство для динамического смещения светового луча относительно оптики, которая фокусирует световой луч и которая содержит оптическую ось и зрачок, для сканирования объекта сфокусированным световым лучом в диапазоне двумерного сканирования, при этом устройство содержит:

• отражатели луча, которые отклоняют луч света в двух разных направлениях относительно оптической оси оптики; и

  — контроллер для управления отражателями луча;

  , в котором каждый отражатель луча отклоняет луч света в одном направлении на угол отклонения, который динамически изменяется контроллером;

  , в котором для первого измерения диапазона двумерного сканирования, по меньшей мере, первый дефлектор луча и второй дефлектор луча соединены последовательно, которые управляются независимо друг от друга и которые в первом одном из двух направлений, отклонять световой луч на первый угол отклонения и второй угол отклонения, причем первый угол отклонения и второй угол отклонения динамически изменяются контроллером независимо друг от друга;

  , в котором для второго измерения диапазона двумерного сканирования по меньшей мере третий дефлектор луча и четвертый дефлектор луча соединены последовательно, которые управляются независимо друг от друга и которые во втором одном из двух направлений, отклонять световой луч на третий угол отклонения и четвертый угол отклонения, причем третий угол отклонения и четвертый угол отклонения динамически изменяются контроллером независимо друг от друга и от первого угла отклонения и второго угла отклонения; и

  , в котором контроллер заранее определяет углы отклонения всех дефлекторов луча для каждой точки диапазона двумерного сканирования таким образом, чтобы луч света при сканировании всего диапазона двумерного сканирования всегда проходил через одну и ту же точку диапазона сканирования. зрачок фокусирующей оптики.

Симона Байлз, возвращаясь, берет бронзу на бревне

3 августа 2021 г., 7:45 по восточному времени

3 августа 2021 г., 7:45 ETImageСимона Байлз выиграла бронзовую медаль на турнире. Бревно во вторник после отказа от участия в нескольких других соревнованиях по женской гимнастике в Токио. Фото… Чанг В. Ли / The New York Times

На Олимпийских играх в Токио Симона Байлз уже была самой опытной гимнасткой нашего времени. Со своей бронзовой медалью в финале соревнований по балансировке во вторник она установила два важных рекорда в этом виде спорта.

У 24-летнего Байлза сейчас 32 олимпийских и мировых медали, что сопоставимо с Ларисой Латыниной из Советского Союза, хотя в целом у Байлза больше золотых медалей. Байлз также заработал семь олимпийских медалей, что сделало Шеннон Миллер самой успешной американской гимнасткой на Играх. Однако у Байлза четыре золотых медали против двух у Миллера.

Миллер, 44 года, заработала свои олимпийские медали в 1992 и 1996 годах, когда американцы впервые выиграли командные соревнования.

Латынина, 86 лет, соревновалась, когда страны за железным занавесом доминировали в женской гимнастике.С 1956 по 1964 год она выиграла 18 олимпийских медалей. Она поддерживает рекорд по количеству золотых олимпийских медалей среди гимнасток: девять.

Контекст важен. Сложность гимнастики сильно изменилась со времен Латыниной, отчасти из-за оборудования. Тогда брусья были менее гибкими, а напольный коврик для упражнений и бревно не имели пружин. Хранилище не имело формы стола, а напоминало конь с более узким навершием, которым пользовались мужчины.

«То, что мы сделали, несопоставимо с тем, что делают современные гимнастки», — сказала Латынина в недавнем интервью Reuters.«Глядя на то, что делают гимнасты сегодня, мне немного страшно. Я бы начал заниматься гимнастикой или нет? »

Байлзу принадлежит сразу несколько рекордов. И среди мужчин, и среди женщин у нее больше всего медалей чемпионата мира — 25 и больше всего золотых медалей — 19 на этих соревнованиях. Она также является обладательницей наибольшего количества титулов в многоборье на чемпионатах мира — пять — потому что соревнования проводились реже до 1978 года.

Она также была первой американской гимнасткой, выигравшей медаль чемпионата мира на всех предметах.

3 августа 2021 г., 6:48 утра по восточноевропейскому времени

3 августа 2021 г., 6:48 утра Э.Т. Симона Байлз использовала соскок с двойным пиком в упражнении с балансиром, что снизило ее оценку сложности.Кредит … Дуг Миллс / Нью-Йорк Таймс

Симона Байлз в финале вторника удачно выполнила упражнение с бревном, получив оценку за выполнение более чем на три десятых выше, чем в квалификационном раунде, когда она споткнулась на своем спешивании. Но ее общий балл 14,0 был немного ниже.

Это потому, что она изменила единственный навык: соскок.

В гимнастике каждому навыку присваивается буквенное значение, которое представляет его сложность. Навыки с рейтингом A являются самыми легкими, в то время как более сложные навыки оцениваются последовательно с использованием букв алфавита: B, C, D и т. Д. (И да, они противоположны буквенным оценкам, которые вы хотели получить в старшей школе).

Во время квалификационного раунда Байлз спешилась с двойной скручивающейся спиной, которая имеет рейтинг G. В финале она спешилась с двойной пикой, которая имеет рейтинг E, так что две буквенные значения проще.

Каждая последующая буква приносит дополнительную десятую часть очка: навык A стоит 0,1, навык B стоит 0,2 и так далее. Это означает, что с точки зрения абсолютной сложности выполнение более легкого спешивания стоило Байлзу всего две десятых. Но поскольку общая оценка сложности упражнения основана как на индивидуальных навыках, так и на бонусах за соединение нескольких навыков, изменение одного движения может иметь эффект снежного кома.

Кодекс очков, который регулирует подсчет очков в гимнастике, присуждает две десятых премии за соединение навыка B со соскоком F (или выше).Байлз обычно получает этот бонус, потому что она делает два спринг-спринта, каждое с рейтингом B, в свой двойной соскок с полным скручиванием назад с рейтингом G. Но, понизившись до соскока с рейтингом E, она потеряла бонус.

Это означало, что ее оценка сложности снизилась на четыре десятых балла по сравнению с программой, которую она использовала в квалификационном раунде: 6,1 вместо 6,5. Это перевешивало ее улучшенное исполнение.

И все же финал балансира довольно непредсказуем. Несколько других гимнасток допустили ошибки, и Байлз со своим менее сложным, но лучше выполненным упражнением выиграла бронзовую медаль даже после того, как финишировала шестым в квалификационном раунде.

Подробнее

3 августа 2021 г., 5:43 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:43 утра по восточному времени Гуан Ченчен из Китая готовится к тренировке с балансиром. Она выиграла золото в этом мероприятии.Предоставлено … Чанг В. Ли / The New York Times

Выполнив сложную, но изящную программу, Гуань Ченчэнь из Китая, самый молодой участник соревнований во вторник, выиграла золотую медаль. луч на Играх в Токио. Симона Байлз в своем долгожданном возвращении выиграла бронзу, а другой китайский спортсмен, Тан Сицзин, выиграл серебро.

Гуань Ченчэнь из Китая получил золотую медаль по балансировке. Фото… Фотографии Беделя Сагета; Составное изображение Ларри Бьюкенен

Гуан, которой 16 лет, она участвует в своих первых Олимпийских играх, специализируется на балансировке бревна, и это было продемонстрировано на этих Играх. Выполнив упражнение намного сложнее, чем у ее соперниц, она прошла квалификацию первой в финале на бревне.

Симона Байлз выиграла бронзовую медаль в своем единственном личном зачете на Играх в Токио. Фото … Дуг Миллс / The New York Times

Во вторник она была восьмой и последней гимнасткой, участвовавшей в соревнованиях, и она совершила прыжки в шпагат, прыжки назад и сальто и антенна, прежде чем взлететь в воздух, чтобы соскочить с удвоенной пики и приземлиться под аплодисменты на арене.Ее результат 14,633 был достаточным, чтобы опередить всех.

Тан занял второе место за серебряной медалью. Байлз, вернувшись к соревнованиям после того, как на прошлой неделе страдала от проблемы с психическим здоровьем, из-за которой она пропустила несколько соревнований на Играх в Токио, заняла третье место с менее сложной программой, чем обычно, и выиграла бронзу.

Байлз со своим товарищем по команде Сунисой Ли, которая на этой неделе выиграла золотую медаль в многоборье. Фото … Дуг Миллс / The New York Times

Читать далее

Авг.3 августа 2021 г., 5:43 по восточному времени

3 августа 2021 г., 5:43 по восточноевропейскому времени

Байлз теперь имеет 32 олимпийских медали и медали чемпионата мира, что делает Ларису Латынину из Советского Союза самой титулованной спортсменкой в ​​истории женского спорта. гимнастика. У Байлза больше золотых медалей, чем у Латыниной, так что можно было бы разумно разорвать счет в ее пользу. Сейчас у нее 23 золотые медали, четыре серебряные медали и пять бронзовых медалей. У Латыниной 18 золотых, девять серебряных и пять бронзовых.

3 августа 2021 г., 5:41 утра по восточному времени

авг.3, 2021, 5:41 утра по восточному времени

Гуань набрала на три десятых меньше, чем в отборочном раунде, но все же легко выигрывает золото — вот насколько далеко она опережает остальных игроков. Ее товарищ по команде Тан Сиджин выиграет серебро, а Симона Байлз — бронзу.

3 августа 2021 г., 5:36 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:36 утра по восточному времени

Последним участником является Гуань Ченчэнь из Китая, набравший наивысший балл в отборочном раунде.

3 августа 2021 г., 5:32 а.м. ET

3 августа 2021 г., 5:32 утра ET

Я думаю, что Владислава Уразова пропустила одно из четырех требований к композиции на бревне: акробатическая серия, включающая как минимум одно сальто, то есть флип. Обычно она делает два спринг-спринта в шаг-аут назад, но сегодня она сделала три спринга назад. Требование о пропущенном сочинении — это 0,5 вычета из оценки сложности.

3 августа 2021 г., 5:27 по восточному времени

3 августа 2021 г., 5:27 по восточноевропейскому времени

Урара Асикава из Японии, которая вышла в финал в последнюю минуту после ухода Ларисы Иордаче, имеет большой баланс. проверяет ее прыжок в кольцо переключателя, но заканчивается очень сложным соскоком с тройным скручиванием.Она набрала 13,733 балла, заняв пятое место.

3 августа 2021 г., 5:22 по восточноевропейскому времени

3 августа 2021 г., 5:22 ETSСимона Байлз поднялась высоко над лучом, выполнив прыжок во время финала луча, своего последнего соревнования на Играх в Токио. .Credit … Дуг Миллс / Нью-Йорк Таймс Байлз щелкает по балке. Она отказалась от нескольких других мероприятий, сославшись на свое психическое здоровье и проблемы со скручиванием. Финал луча стал для нее первым выходом на площадку для соревнований в Токио после командного финала на прошлой неделе.Кредит … Дуг Миллс / Нью-Йорк Таймс Байлз управлял лучом, ширина которого составляет всего четыре дюйма. В итоге она завоевала бронзовую медаль, как и пять лет назад на Олимпийских играх в Рио-де-Жанейро. Кредит … Чанг В. Ли / The New York Times Байлз выбрал соскок с двойной копейкой. Обычно она выполняет двойную группировку с полным скручиванием, а иногда и более сложную двойную группировку с двойным скручиванием. Двойная щука считалась более безопасной ставкой для гимнастки, у которой были проблемы с навыками скручивания. Кредит … Чанг В. Ли / The New York Times Она сделала прыжок при соскоке, но, похоже, это ее не смутило.Она получила 14 баллов. Кредит … Чанг В. Ли / The New York Times Байлз сошел с трибуны, когда небольшая толпа спортсменов и других людей, собравшихся в Центре гимнастики Ариаке, громко аплодировала. Кредит … Дуг Миллс / The New York Times Байлз со своим товарищем по команде Сунисой Ли, которая на этой неделе выиграла золотую медаль в многоборье. Фото … Дуг Миллс / The New York Times Читать далее

3 августа 2021 г., 5:20 утра по восточному времени

, 3 августа 2021 г., 5:20 по восточному времени.

У Сунисы Ли было сильное колебание боковой антенны, смещение макета, смещение макета, но каким-то образом — я не могу сказать вам, как — удалось удержаться на луче.Замечательный сейв, но все же большой вычет из того, что в остальном было безупречным распорядком. Она набрала 13,866 балла.

3 августа 2021 г., 5:22 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:22 утра по восточному времени

Оценка Ли ставит ее на четвертое место. Сегодня она не поднимется на подиум, но она все еще уходит с этих Олимпийских игр с тремя медалями, включая самую большую из всех: золото в многоборье.

3 августа 2021 года, 5:19 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:19 утра и т. Д. Кредит … Чанг В.Ли / The New York Times

Когда трибуны в одном конце Гимнастического центра Ариаке были почти заполнены фанатами во вторник, Симона Байлз махнула рукой, когда ее имя было объявлено в финале бревна, под рев аплодисментов. Ни на одном другом мероприятии по гимнастике на Играх в Токио у трибун не было столько болельщиков. Они были здесь, чтобы увидеть Байлза в том, что могло стать ее последним выступлением в качестве элитной гимнастки.

Пропустив здесь несколько соревнований из-за проблем с психическим здоровьем, Байлз выполнила прыжки наотмашь, сальто, прыжки в шпагат и двойное сальто назад в позиции согнувшись для соскока.Было несколько моментов шаткости, но в целом это был хороший распорядок для того, кто справился с таким стрессом на этих Играх. Исчезли повороты ее сложного и трудного соскока, названного в ее честь. Но она закончила свое выступление с улыбкой, похлопав себя по груди и побежав обнять своего тренера Сесиль Ланди.

Когда ее результат появился в таблице лидеров, она покачала головой в знак согласия. Это было 14,0, что намного ниже ее обычного результата, но, судя по рутинному выражению ее лица, самым лучшим результатом было то, что она закончила.

3 августа 2021 г., 5:16 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:16 утра по восточному времени

Симона Байлз отлично справилась с лучевой терапией. Ее оценка сложности будет на четыре десятых ниже, чем в квалификационном раунде, потому что она сделала более легкий соскок, но на самом деле она не могла бы сделать лучше, чем это. Это так впечатляет после того, как много она боролась на прошлой неделе.

3 августа 2021 г., 5:16 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:16 утра по восточному времени

Байлз, похоже, пропустил одно соединение, но я не уверен, что это имеет значение для кого-либо.Какое достижение.

3 августа 2021 г., 5:10 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:10 утра по восточному времени

В ожидании счета Тан Сицзин Симона Байлз подходит к балке, немного вытирает ее, затем стоит в стороне и ждет.

3 августа 2021 г., 5:03 по восточному времени

3 августа 2021 г., 5:03 по восточноевропейскому времени

Элли Блэк из Канады вышла первой на луче из-за травмы лодыжки, которая не позволила ей участвовать в соревнованиях. -округлый финал.

3 августа 2021 г., 5:07 утра по восточному времени

авг.3, 2021, 5:07 утра по восточному времени

Блэк провела несколько небольших проверок баланса, но в целом выполнила свой распорядок, включая невероятно сложную группировку спины с полным поворотом. Она, рыдая, обнимает своего тренера, когда сходит с трибуны.

3 августа 2021 г., 4:58 по восточному времени

3 августа 2021 г., 4:58 по восточному времени

Ферхат Арикан из Турции в восторге от своей бронзовой медали в брусьях, показывая свою медаль на камеру и размахивая им. Если бы все так праздновали свои серебряные и бронзовые награды, возможно, фанаты тоже праздновали бы их с энтузиазмом.

3 августа 2021 года, 4:58 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:58 утра по восточному времени

Диктор арены напоминает людям здесь «всегда соблюдать правила социального дистанцирования». Хм, это довольно сложно для людей, упаковывающих стойки над балансиром. Я вижу там Томаса Баха, президента МОК, который выглядит странно непринужденно в рубашке для гольфа с короткими рукавами.

Кредит … Чанг В. Ли / The New York Times

3 августа 2021 г., 4:44 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:44 утра по восточному времени

Мы обратим наше внимание на несколько минут от брусьев до бревна.Снявшись с финала в последнюю минуту из-за травмы лодыжки, Лариса Иордаче из Румынии несколько минут назад написала в Твиттере душераздирающее заявление, в котором упомянула свою мать, которая умерла за четыре недели до начала Игр.

Я до последнего пытался и надеялся на этот олимпийский финал. К сожалению, мой путь снова ожесточился … эта боль в лодыжке, которая, как я чувствую, выше моих человеческих возможностей. (1/3)

— Лариса Иордаче (@Larisa_Iordache) 3 августа 2021 г.

авг.3, 2021, 5:10 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 5:10 утра по восточному времени

«Я пытался и надеялся до последнего момента на этот олимпийский финал», — написал Иордач. «Я хотел сделать это для себя и для человека, который толкнул меня по этому пути, которого, к сожалению, больше нет рядом со мной, и я не могу получить от него ни слова поддержки».

3 августа 2021 г., 5:35 по восточному времени

3 августа 2021 г., 5:35 по восточноевропейскому времени

Иордач, который на чемпионате мира 2014 года обошел Симону Байлз в многоборье на пол-очка. , получил травмы незадолго до Олимпийских игр 2012 года, Олимпийских игр 2016 года и чемпионатов мира 2017 года.В прошлом месяце я спросил ее, как она осталась мотивированной через все это, и она сказала мне: «Чувство доказывать себе, что я лучше, чем я думаю, никогда не уменьшалось в моей душе. Так что я не мог позволить своим мыслям захлестнуть меня, и каждый раз вставал ».

3 августа 2021 года, 4:38 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:38 утра по восточному времени

На трибунах здесь, в Центре гимнастики Ариаке, появилось много фанатов, вероятно, больше, чем на любом другом мероприятии. так далеко. Настолько странно, что многие из них собрались на трибунах над балансиром.Судя по учетным данным, висевшим у них на шее, многие из них, похоже, из NBC. Интересно, кого они здесь, чтобы увидеть?

3 августа 2021 года, 4:35 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:35 утра по восточному времени

Лукас Даузер поднялся на вершину брусьев и стоит там, поставив одну ногу на каждую перекладину, празднуя праздник. его серебряная медаль. Он развернул немецкий флаг и держит его за собой, пока его фанаты на трибунах приветствуют его. Кто сказал, что выиграть серебро — это разочарование? Этот парень в восторге!

Кредит…Чанг В. Ли / The New York Times

3 августа 2021 г., 4:34 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:34 по восточному времени

Лукас Даузер из Германии завершает финал твердой программой и получает серебряную медаль. Это означает, что Цзоу Цзинъюань выиграет золото, как и ожидалось, а Ферхат Арикан получит бронзовую медаль для Турции. Мужчины соревнуются в шести видах спортивной гимнастики: вольные упражнения, стрельба на коне, прыжок с кольцами, брусья и высокая перекладина; женщины делают только четыре. Итак, на каждой спортивной встрече мужчины всегда выигрывают на шесть медалей больше, чем женщины.

3 августа 2021 г., 4:29 по восточноевропейскому времени

3 августа 2021 г., 4:29 по восточноевропейскому времени

Во время мужских соревнований организаторы кричат ​​под звуки бьющегося сердца, чтобы усилить драму, когда спортсмены дождитесь их оценок. Это просто подло.

3 августа 2021 года, 4:31 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:31 утра по восточному времени

Это заставляет вас нервничать, даже если вы не участвуете в соревнованиях!

3 августа 2021 г., 4:25 по восточному времени

3 августа 2021 г., 4:25 по восточноевропейскому времени

Петр Пахнюк из Украины очень долго делал паузу в упражнениях на брусьях, пытаясь удержать равновесие. стойка на руках на одном поручне.Это убережет его от медалей.

3 августа 2021 г., 4:24 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:24 утра по восточному времени

Кенсли Бехел из Gymcastic сказал мне, что Бхавсар — это навык, за которым нужно следить. Мы уже видели это несколько раз. Он был назван в честь американского гимнаста Раджа Бхавсара, который сказал, что создал его после того, как поинтересовался, «смогу ли я выполнить упражнение с высокой перекладиной на брусьях». Гимнастка начинает с одного конца перекладины в стойке на руках, проходит через перекладину, взлетает в положение верхом, ловит перекладину и снова делает мах вниз.Занимает всю длину брусьев. Смотрите здесь.

3 августа 2021 года, 4:20 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:20 утра по восточному времени

16,233 балла Цзоу Цзинюаня были наивысшим результатом по гимнастике, который мы видели в Токио. Это будет сложно победить. Американец Сэм Микулак набрал 15 баллов, что ниже, чем в квалификации. Это убережет его от медалей.

3 августа 2021 г., 4:18 по восточному времени

3 августа 2021 г., 4:18 по восточноевропейскому времени

Ю Хао из Китая в охоте за медалью на брусьях приземлился очень низко на своем соскоке. .

3 августа 2021 года, 4:20 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:20 утра по восточному времени

Вы переместились на третье место, выбив Микулака из медального положения, но его собственная позиция сомнительна с несколькими гимнастками. осталось соревноваться.

3 августа 2021 года, 4:12 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:12 утра по восточному времени

Сэм Микулак поднялся после большого счета и находится в охоте за медалью. На прошлой неделе он занял 12-е место в финале многоборья. Следует отметить, что он говорил о психическом здоровье в спорте, как и Симона Байлз и десятки других гимнасток.В мае в Instagram он частично написал: «За всю свою спортивную карьеру я был потрясен. Я был настолько поглощен страхом не достичь своих целей, что стал мешать тому, что действительно создает успех. Счастье.»

3 августа 2021 г., 4:08 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:08 утра по восточному времени

Цзоу Цзинъюань из Китая встал. В квалификации у него было звездное исполнение — почти 9,4. Кенсли Бехел из подкаста Gymcastic сказал мне, что «он плохо приземлился в квалификации, так что вы могли видеть, что он поднялся до 9.5, 9,6. Он буквально почти идеален на этом мероприятии ».

Кредит … Дуг Миллс / The New York Times

3 августа 2021 года, 4:06 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 4:06 утра по восточному времени

Ферхат Арикан из Турции почти потерял равновесие в стойке на руках но остался на решетке. Такие мелкие ошибки могут определить здесь медали, но он выглядит взволнованным своим выступлением, размахивая кулаками.

3 августа 2021 г., 4:03 по восточному времени

3 августа 2021 г., 4:03 по восточному времени

Финал соревнований на брусьях начинается.Цзоу Цзинъюань из Китая — фаворит на золото, но остальная часть подиума ждет интересная гонка. Лукас Даузер из Германии, Ю Хао из Китая, Ферхат Арикан из Турции и Сэм Микулак из США — все вышли в финал с разницей в три десятых балла друг от друга. Это примерно то же самое, что мы видели в захватывающем финале женского пола в понедельник, где победительница, Джейд Кэри, примерно на три десятых опередила занявшую пятое место бразильянку Ребеку Андраде.

Авг.3, 2021, 3:59 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 3:59 утра по восточному времени

Это ужасно для Иордаче, невероятно талантливой румынской гимнастки, которая снова и снова получает травмы в худшие из возможных.

3 августа 2021 года, 3:57 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 3:57 утра по восточному времени

Окончательный стартовый лист балансира был обновлен, и похоже, что Лариса Иордаче из Румынии не участвует в нем. , а на ее месте — первый резервист, Урара Асикава из Японии.

Авг.3, 2021, 3:52 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 3:52 утра по восточному времени

Один человек, которого непременно нужно остерегаться, — это Гуань Ченчэнь из Китая. Сегодня она идет последней. Она, казалось, разогревалась больше, чем кто-либо, и оказалась на высоте, выполняя рутину, которая была явно более сложной, чем у ее соперниц во время квалификации.

3 августа 2021 г., 3:45 по восточному времени

3 августа 2021 г., 3:45 ETS Сэм Микулак из США имеет шанс выиграть медаль на брусьях. Фото … Chang W .Ли / The New York Times

Перед финалом соревнований на брусьях среди женщин восемь мужчин, включая американца Сэма Микулака, будут соревноваться на брусьях. Гимнасты будут качаться между двумя перекладинами длиной около 11,5 футов и высотой более 6 футов. Подобно женщинам на брусьях, мужчины делают задачу легкой.

«Если Сэм пойдет чисто, у него есть шанс на медализацию, но с оговоркой, что ему нужно, чтобы другие люди пошатнулись», — сказал Кенсли Бехел, эксперт по мужской гимнастике, участник подкаста Gymcastic.

Цзоу Цзинюань из Китая, которая вышла в финал и заняла первое место, «почти гарантировала золотую медаль», — сказала она, признав — как показали эти Игры, — что в гимнастике нет ничего определенного.

Она добавила, что застрявший соскок на этом предмете, в частности, может означать разницу между тем, чтобы оказаться на пьедестале почета или приземлиться на четвертом или пятом месте.

Соединенным Штатам еще предстоит завоевать медаль в мужской гимнастике в Токио; На прошлой неделе американцы заняли пятое место в командном финале.«По сути, они сделали именно то, что и ожидалось, — сказал Бехел о команде, — то есть они почти на вершине, но не на вершине».

Есть еще одно мужское соревнование после финала на бревне: турник, широко известный как высокая перекладина, где Броуди Мэлоун получит последний шанс выиграть медаль для американцев.

Подробнее

3 августа 2021 г., 3:31 по восточному времени

3 августа 2021 г., 3:31 по восточноевропейскому времени Гуан Ченчен из Китая финишировала первой в квалификации на бревне, отчасти потому, что ее упражнение было сложнее те, что в исполнении других.Кредит … Чанг В. Ли / The New York Times

Помимо Симоны Байлз и Сунисы Ли, вот еще шесть участников в порядке их квалификации:

• Гуань Ченчен, 16 лет, из Китая, находится в Токио из-за ее тренировок с лучами — и ее навыки были широко продемонстрированы во время квалификационного раунда. Она взорвала остальную часть поля со счетом 14,933, во многом благодаря тому, что сложность была почти на полбалла выше, чем у любого другого квалификационного турнира.

• Тан Сицзин, 18 лет, из Китая, получил второе место по баллу в квалификации — 14.333. Но в отличие от Гуаня, у которого было больше недели, чтобы восстановиться после квалификационного раунда и подготовиться к финалу, Тан — серебряный призер мирового многоборья 2019 года — соревновался на всех четырех снарядах в командном финале и многоборье. финал и придет на мероприятие во вторник усталым.

• Элли Блэк, 25 лет, из Канады, заняла пятое место в квалификации с результатом 14,1 и более сложным упражнением, чем любой другой финалист, кроме Гуана и Байлза, но у нее травма лодыжки, которая не позволила ей участвовать в соревнованиях. -округлый финал.Если бы она, несмотря на это, поднялась на подиум, Блэк, которая является серебряным призером мирового многоборья 2017 года и участвует в своих третьих Играх, была бы первой канадской, выигравшей олимпийскую медаль в женской гимнастике.

• Владислава Уразова, 16 лет, Россия, заняла седьмое место с результатом 14.0. На прошлой неделе она выиграла золото со сборной России и была четвертой в многоборье, но, если не считать серьезных ошибок со стороны других участников, она вряд ли будет претендентом на медаль на бревне, потому что ее оценка сложности всего 5.8 — более чем на очко меньше, чем у Гуаня, и на несколько десятых меньше среднего в этом финале.

• 21-летняя Флавия Сараива из Бразилии была последней прошедшей квалификацию в финал, набрав 13,966, и находится в таком же невыгодном положении, что и Уразова, поскольку ее оценка сложности составляет 5,9. Подобно Иордаче и Блэку, она также может иметь травму; похоже, она повредила лодыжку во время выполнения упражнений на полу в квалификационном раунде. На Олимпийских играх 2016 года она заняла пятое место в финале луча.

• Урара Асикава из Японии был резервным игроком, который был добавлен в стартовый список во вторник из-за ухода Ларисы Иордаче из Румынии.Асикава квалифицировался на 12-м бревне.

3 августа 2021 г., 3:19 по восточному времени

3 августа 2021 г., 3:19 по восточноевропейскому времени

Симона Байлз и Суниса Ли вместе с несколькими другими участницами финала бревна провели несколько минут на разогреве луча перед толпой нетерпеливых фотографов. Во время нескольких соскоков Байлз выполнила двойную пайку, что, как отметила Мэгги, менее сложно, чем то, что она выполнила во время квалификации.

Авг.3, 2021, 3:12 утра по восточному времени

3 августа 2021 года, 3:12 утра ETSunisa Lee квалифицировалась третьей на бревне, а затем выиграла золотую медаль в многоборье. Фото … Doug Mills / The New York Times

Симона Байлз, 24 года, будет участвовать в финале своего единственного снаряжения на этих Играх, и неясно, будет ли она выполнять то же упражнение, что и в квалификационном раунде, у которого была огромная сложность — 6.5. Это сделало бы ее сильным претендентом на медаль, если бы она избежала большого спотыкания, которое у нее было при ее двойном соскоке со скручиванием спины.(Из-за этой ошибки она была шестой квалификацией в финале, но без нее, вероятно, была бы второй.) Поскольку ее умственный блок связан с скручиванием, она может переключиться на соскок с двойной пикой, что снизит ее сложность на 0,4 балла.

18-летняя Суниса Ли сказала перед Олимпиадой, что она хотела бы выиграть медаль на бревне, и она могла бы: у нее был третий результат — 14,2 в квалификационном раунде. Но с таким количеством сильных гимнасток в финале у нее нет права на ошибку.Она не совсем соответствовала своей квалификационной отметке в командном финале, набрав 14,133 балла, а в финале многоборья она набрала 13,833 балла после того, как чуть не потеряла равновесие в своем первом умении.

3 августа 2021 г., 2:50 по восточному времени

3 августа 2021 г., 2:50 по восточному времени Билли во время командного финала. Кредит … Дуг Миллс / The New York Times

Соревнования по женской гимнастике в Токио завершатся во вторник финалом на бревне, и Симона Байлз будет участвовать в соревнованиях впервые с тех пор, как неделю назад вышла из командного финала.

Это последний выстрел в индивидуальной медали для Байлз, которая прошла квалификацию в каждом финале, но вышла из многоборья, опорного прыжка, брусьев и вольных упражнений из-за психологического блока, который помешал ей безопасно участвовать в соревнованиях.

Ей предстоит сыграть со своей партнершей по команде Сунисой Ли, которая выиграла золото в многоборье и бронзу на брусьях; Гуань Ченчен и Тан Сицзин из Китая, занявшие первое и второе места на луче в квалификационном раунде; и Лариса Иордаче из Румынии, которая ищет спасения после долгих лет травм.

3 августа 2021 г., 2:49 по восточноевропейскому времени

3 августа 2021 г., 2:49 по восточноевропейскому времени Билли на бревне во время квалификационного раунда Фото … Дуг Миллс / The New York Times

Женский баланс Соревнования на бревне являются частью последних соревнований по гимнастике на Играх в Токио. Также есть два мужских соревнования: на брусьях и на перекладине. Соревнования на бревне среди женщин начинаются в 17:50. местное время в Токио. Время для американских зрителей необычное, но вот варианты:

• В прямом эфире: Соревнования начнутся во вторник в 4:50.м. По восточному времени, их можно транслировать в прямом эфире на сайте NBC Olympics, Peacock или в приложении NBC Sports.

• TAPE DELAY: Многие фанаты предпочтут транслировать повтор или смотреть трансляцию с задержкой на магнитной ленте на NBC в 20:00. По восточному времени.

3 августа 2021 г., 2:48 по восточноевропейскому времени

3 августа 2021 г., 2:48 и т. Д. Кредит … Чанг В. Ли / The New York Times

Восемь гимнасток, набравших наибольшее количество баллов на бревне в отборочном раунде, максимум два участника от страны, будут соревноваться в финале.(Гимнастка, занявшая пятое место, Лу Юфэй из Китая, была исключена по правилу двух от каждой страны, а гимнастка с девятым рейтингом, Флавия Сарайва из Бразилии, вышла вместо нее.)

Каждое упражнение получит один балл за трудность. и еще один для исполнения, и эти два будут добавлены вместе для получения окончательных оценок. Вот руководство по навыкам луча и подсчету очков.

EBT (внешняя лучевая терапия)

Внешняя лучевая терапия (EBT) — это метод доставки высокоэнергетических рентгеновских лучей или электронных лучей к опухоли пациента.Лучи обычно генерируются линейным ускорителем и нацелены на уничтожение раковых клеток, сохраняя при этом окружающие нормальные ткани. EBT также может использоваться для облегчения симптомов у пациентов с запущенным раком или раком с метастазами.

Чтобы подготовиться к EBT, ваш врач проведет физический осмотр и с помощью компьютерной томографии проведет сеанс моделирования лечения. Для определения точной формы и местоположения опухоли могут использоваться другие процедуры визуализации, а также может быть создано специальное устройство, которое поможет вам сохранять одно и то же точное положение во время каждого лечения.Ваш врач даст вам конкретные инструкции в зависимости от используемой методики лечения.

Что такое внешняя лучевая терапия и как она используется?

Наружная лучевая терапия (EBT), также называемая внешней лучевой терапией, представляет собой метод доставки пучка или нескольких пучков высокоэнергетических рентгеновских лучей к опухоли пациента. Лучи генерируются вне пациента (обычно с помощью линейного ускорителя, см. Ниже) и нацелены на место опухоли. Эти высокоэнергетические рентгеновские лучи могут воздействовать на область опухоли, чтобы разрушить раковые клетки и, при тщательном планировании лечения, сохранить окружающие нормальные ткани.Внутри тела пациента нет радиоактивных источников.

Наружная лучевая терапия применяется для лечения следующих, а также многих других заболеваний:

Почему проводится эта процедура?

Наружная лучевая терапия чаще всего используется для лечения рака. Часто цель состоит в том, чтобы устранить опухоль или предотвратить ее повторное появление. Процедура также может выполняться до или после операции для удаления раковой опухоли, для уменьшения размера опухоли перед операцией или для предотвращения рецидива опухоли после операции.

EBT также может использоваться в качестве паллиативного лечения у пациентов с раком поздней стадии или раком с метастазами. В этом случае цель терапии — уменьшить симптомы у пациента, а не вылечить рак.

начало страницы

Кто будет участвовать в этой процедуре?

Для проведения дистанционной лучевой терапии требуется бригада терапевтов, в том числе лучевая
онколог, медицинский физик, дозиметрист и лучевой терапевт. Онколог-радиолог — это врач, который оценивает состояние пациента и определяет подходящую терапию или комбинацию методов лечения.Он или она определяет, какую область лечить и какую дозу вводить. Вместе с медицинским физиком и дозиметристом онколог-радиолог определяет, какие методы следует использовать для введения предписанной дозы. Затем физик и дозиметрист проводят подробные расчеты лечения и проверки качества до начала лечения. Лучевые терапевты — это специально обученные технологи, которые проводят ежедневные процедуры.

начало страницы

Какое оборудование используется?

Онкологи-радиологи используют линейные ускорители или кобальтовые аппараты для проведения дистанционной лучевой терапии.Ваш онколог-радиолог определит оборудование, наиболее подходящее для вашего лечения. Линейный ускоритель — наиболее часто используемый аппарат для дистанционной лучевой терапии.

начало страницы

Кто эксплуатирует оборудование?

Обслуживает оборудование лучевой терапевт, высококвалифицированный технолог. Общий план лечения составляет онколог-радиолог, высококвалифицированный врач, специализирующийся на лечении рака с помощью лучевой терапии.

начало страницы

Требуется ли специальная подготовка к процедуре?

Процесс внешней лучевой терапии состоит из трех частей:

• Моделирование
• Планирование лечения
• Доставка лечения

Цель моделирования — определить положение для лечения, которое будет использоваться ежедневно, создать устройства, которые помогут пациенту сохранять это положение, и получить необходимые изображения для планирования лечения.Лучевой терапевт помещает пациента в положение лечения на компьютерном томографе. Маски, подушки или другие устройства для иммобилизации обычно используются, чтобы помочь пациенту оставаться неподвижным и в определенном положении во время симуляции. Эти устройства будут использоваться для лечения, чтобы ежедневно достигать одного и того же положения, поэтому важно, чтобы пациент мог сохранять это положение. Изображения обрабатываемой области делаются в положении для лечения. Лучевой терапевт оставляет на пациентах небольшие отметки, чтобы облегчить ежедневное лечение.Эти отметки могут быть татуировками или цветными чернилами. Татуировки останутся постоянными, но цветные чернила со временем исчезнут. Семена-маркеры могут быть помещены в опухоль-мишень или орган при моделировании или во время отдельной хирургической процедуры. Эти семена или отметки призваны помочь лучевому терапевту расположить пациента во время каждого сеанса лечения.

Для планирования лечения дозиметрист, медицинский физик и онколог-радиолог используют специальную компьютерную программу для расчета дозы облучения, которая будет доставлена ​​к опухоли пациента и окружающим нормальным тканям.Онколог-радиолог определит объем опухоли и других областей, которые необходимо лечить, и наметит их на изображениях для планирования лечения. Он или она также наметит нормальные структуры, которых следует избегать или учитывать при разработке плана лечения. Вместе онколог, дозиметрист и физик разработают план лечения, который обеспечивает соответствующую дозу для опухоли при минимизации дозы для окружающих нормальных тканей. В некоторых случаях в этом процессе могут использоваться такие методы, как трехмерная конформная терапия, лучевая терапия с модуляцией интенсивности (IMRT) или терапия с объемной модуляцией дуги (VMAT).Это планирование основывается на результатах компьютерной томографии, МРТ и ПЭТ / КТ, которые могут быть выполнены в отделении радиологии или радиационной онкологии.

После завершения моделирования и планирования можно начинать лечение.

начало страницы

Как проходит процедура?

Перед каждым сеансом лечения пациента могут попросить переодеться в халат. Лучевой терапевт приводит пациента в процедурный кабинет и помещает его / ее на лечебную кушетку линейного ускорителя в точно таком же положении, которое использовалось для моделирования с использованием тех же устройств иммобилизации.Терапевт осторожно позиционирует пациента, используя выравнивающие лазеры и метки, нанесенные на пациента во время симуляции. Некоторые формы визуализации часто используются до начала лечения, чтобы проверить точность настройки пациента. Некоторые из типов визуализации, которые можно использовать, включают рентгеновское излучение, ультразвук и компьютерную томографию с коническим лучом. Терапевт выходит за пределы комнаты и снаружи включает линейный ускоритель. Можно использовать лучи с одного или нескольких направлений, и луч может быть включен на несколько минут для каждого поля.

Процесс лечения может занимать один час или меньше каждый день, и большую часть времени часто уходит на позиционирование и визуализацию пациента. Первое лечение обычно длится дольше всех; последующие процедуры занимают от 15 до 30 минут. Само лечение может длиться всего несколько минут. Продолжительность лечения пациента зависит от метода лечения, такого как IMRT, и введенной дозы. Продолжительность каждого лечения обычно будет одинаковой изо дня в день.

Пациенты обычно получают лучевую терапию один раз в день, пять дней в неделю, в общей сложности от двух до девяти недель.Диагноз пациента определяет общую продолжительность лечения. Иногда лечение проводят два раза в день.

начало страницы

Что я буду чувствовать во время этой процедуры?

Наружная лучевая терапия безболезненна, но во время лечения пациенты будут слышать жужжание или щелчки. Линейный ускоритель может вращаться или двигаться во время лечения. Пациенты не чувствуют ничего необычного, но иногда могут почувствовать странный запах во время лечения, вызванный озоном, вырабатываемым линейным ускорителем.Некоторые пациенты могут также видеть цветной свет во время лечения; это событие особенно актуально для пациентов, которым лечили мозг или глаза.

Ваш врач может порекомендовать серию контрольных осмотров после лечения. Они могут включать в себя медицинский осмотр, визуализацию, анализ крови или другие лабораторные анализы.

Эти посещения помогут вашему врачу увидеть, стабильно ли ваше состояние или изменилось ли оно. Они также позволяют обсудить с врачом любые побочные эффекты лечения.

начало страницы

Какого рода последующее лечение мне следует ожидать?

После завершения лечения пациентов просят вернуться для последующих посещений.Во время этих посещений пациенты будут проходить обследование, включая визуализацию или анализы крови, чтобы определить, был ли их рак устранен или требуется дополнительное лечение. Даже если рак был излечен, пациенты могут продолжать периодические посещения врача для последующего наблюдения.

начало страницы

Эта страница была рецензирована 30 января 2019 г.

Облучатель сходящегося пучка

| Радиология

При использовании источников высокоэнергетического гамма- или рентгеновского излучения для телетерапии необходимо обеспечить средства точного позиционирования луча относительно пациента.Это можно сделать разными способами. Выбор метода обычно предполагает некоторый компромисс между стоимостью и полезностью. Наиболее распространенный метод заключался в создании опорной конструкции для источника излучения, которая допускает одно или несколько прямолинейных движений в декартовых координатах и ​​одну или несколько свобод вращения вокруг оси, проходящей через источник или рядом с ним. Недавно было разработано оборудование, позволяющее перемещать источник по центрированной дуге окружности на опухоли (1).

При фиксированном пациенте все необходимые направления луча для глубокой терапии обеспечиваются источником, движущимся по поверхности сферы, при этом опухоль находится в центре сферы, а луч направлен радиально внутрь к этому центру.Поскольку интегральная доза значительно увеличивается, если луч проходит через пациента под небольшим углом к ​​длинной оси тела, таких лучей следует избегать. Более полезные направления луча обеспечиваются источником, перемещающимся по той части сферы, как графически показано на рисунке 1.

В общем, предпочтительнее ориентировать лучи, перемещая источник, а не пациента, и настраивать оборудование до тех пор, пока луч излучения правильно выровнен. Как только это будет сделано так, что центр опухоли совпадает с центром гипотетической сферы движения источника, можно использовать любое количество различных направлений луча без дальнейшего изменения положения пациента.

Такой подход привел нас к разработке оборудования для глубокой терапии, показанного на Рисунке 2. Воспроизведенная фотография является первой установкой в ​​больнице Фрэнсиса Делафилда (Нью-Йорк) в мае 1953 года.

Общее описание оборудования

Источником излучения, для которого было разработано это оборудование, является радиоактивный изотоп, доставляющий от 20 до 60 оборотов в минуту на расстоянии 1 метра гамма-излучения примерно 1,2 мэв, что соответствует примерно 3 миллионам вольт рентгеновского излучения.Источник кобальта-60, использованный в первом оборудовании, дает 18,7 об / мин на 1 м.